【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
新型硅片清洗液
本專利技術(shù)涉及一種清洗液，特別涉及一種新型硅片清洗液。
技術(shù)介紹
隨著社會(huì)的發(fā)展，能源危機(jī)日益嚴(yán)重的今天，開發(fā)利用新能源已經(jīng)越來越收到人們的關(guān)注，太陽能由于器無污染、可再生、無地域性等優(yōu)點(diǎn)，越來越受到人們的青睞，太陽能產(chǎn)業(yè)也來越得以發(fā)展。而伴隨太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的成熟，硅片的使用也越來越多。清洗最為硅片的一個(gè)生產(chǎn)工序之一，清洗的好壞程度對(duì)硅片的使用性能有著很大的影響。清洗的主要目的是為了清洗掉切割過程中產(chǎn)生的沙粒，殘留的切削磨料、金屬離子及指紋等，使硅片表面達(dá)到無腐蝕、無氧化、無殘留等技術(shù)指標(biāo)。傳統(tǒng)的硅片清洗，由于各個(gè)方法不一樣，采用的清洗液也不一樣。現(xiàn)有技術(shù)中的清洗液清洗效果較差，對(duì)于硅片表面的污潰難以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問題是提供一種能將硅片清洗干凈，使用簡(jiǎn)單的新型清洗液。為了解決上述技術(shù)問題，本專利技術(shù)新型硅片清洗液，由表面活性劑20-50份、三羥乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化銨7_10份、柑橘油3_6份、水20-33份組成，以重量份數(shù)計(jì)。上述新型硅片清洗液，其中，由表面活性劑27份、三羥乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化銨9份、柑橘油2.5份、水31份組成。上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性劑為非離子表面活性劑。上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性劑為單硬脂酸甘油酯。上述新型硅片清洗液，其中，所述水為去離子水。本專利技術(shù)可有效提高對(duì)硅片的清潔程度，配方簡(jiǎn)單易于操作，對(duì)環(huán)境無不利影響，去污力強(qiáng)，提高了硅片的清洗速度與耐用性能，有利于提高硅...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性劑20?50份、三羥乙基胺7?12份、乙醇7?13份、丙二醇3?9份、氟化銨7?10份、柑橘油3?6份、水?20?33份組成，以重量份數(shù)計(jì)。
【技術(shù)特征摘要】
1.新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性劑20-50份、三羥乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化銨7-10份、柑橘油3-6份、水20-33份組成，以重量份數(shù)計(jì)。2.如權(quán)利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性劑27份、三羥乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：聶金根，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：鎮(zhèn)江市港南電子有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：江蘇;32
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