本發(fā)明專利技術(shù)提供一種用來(lái)以防污涂層成分涂覆光學(xué)制品的機(jī)器，所述機(jī)器包括：真空室（8），該真空室被構(gòu)造用來(lái)接收該光學(xué)制品；真空泵（20），所述真空泵連接到所述真空室（8）；等離子體發(fā)生器（11），該等離子體發(fā)生器被構(gòu)造用來(lái)執(zhí)行光學(xué)制品的真空等離子體處理；蒸發(fā)裝置（10），該蒸發(fā)裝置被構(gòu)造用來(lái)執(zhí)行該成分的真空蒸發(fā)處理以便將其沉積在光學(xué)制品上；控制單元（2），該控制單元控制等離子體發(fā)生器以便移除該制品的初始最外防污涂層，控制蒸發(fā)裝置以便用防污涂層成分再涂覆該制品，被構(gòu)造用來(lái)在真空等離子體處理期間引起真空泵（20）從室（8）吸取氣體，并且還被構(gòu)造用來(lái)在真空蒸發(fā)處理期間引起真空泵（20）不從室（8）吸取氣體。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】【專利摘要】本專利技術(shù)提供一種用來(lái)以防污涂層成分涂覆光學(xué)制品的機(jī)器，所述機(jī)器包括：真空室（8），該真空室被構(gòu)造用來(lái)接收該光學(xué)制品；真空泵（20），所述真空泵連接到所述真空室（8）；等離子體發(fā)生器（11），該等離子體發(fā)生器被構(gòu)造用來(lái)執(zhí)行光學(xué)制品的真空等離子體處理；蒸發(fā)裝置（10），該蒸發(fā)裝置被構(gòu)造用來(lái)執(zhí)行該成分的真空蒸發(fā)處理以便將其沉積在光學(xué)制品上；控制單元（2），該控制單元控制等離子體發(fā)生器以便移除該制品的初始最外防污涂層，控制蒸發(fā)裝置以便用防污涂層成分再涂覆該制品，被構(gòu)造用來(lái)在真空等離子體處理期間引起真空泵（20）從室（8）吸取氣體，并且還被構(gòu)造用來(lái)在真空蒸發(fā)處理期間引起真空泵（20）不從室（8）吸取氣體。【專利說(shuō)明】
本專利技術(shù)涉及用來(lái)以防污涂層成分涂覆光學(xué)制品的機(jī)器，該光學(xué)制品諸如眼鏡，并且特別地，優(yōu)選地安裝在眼鏡框架上的眼鏡片。本專利技術(shù)還涉及一種使用這種機(jī)器的方法。
技術(shù)介紹
熟知的是，鏡片(并且具體地，眼鏡片)包括眼用基片，該眼用基片具有適合于佩戴者的幾何特征。眼用基片需要添加涂層，例如用來(lái)增加鏡片的耐磨性的耐磨涂層，用來(lái)減少光的反射的抗反射涂層，和施加在抗反射涂層上的防污涂層。防污涂層提供外部涂層，與抗反射涂層相比，該外部涂層可以更加耐污染(例如有機(jī)雜質(zhì)的污染)并且更容易清潔。防污涂層還保護(hù)抗反射涂層。鏡片的佩戴者可能希望更換這種防污涂層，因?yàn)樗鐾繉拥男Ч赡茈S著時(shí)間的過(guò)去而降低。移除第一防污涂層并且用第二防污涂層取代它的一種已知方法在美國(guó)專利申請(qǐng)US 2005/0008784中 被描述，其中低壓力等離子體處理被執(zhí)行以移除初始涂覆在鏡片上的第一防污涂層。接下來(lái)，第二防污涂層(新的防污涂層)被涂覆在鏡片上，例如通過(guò)用編織的或非編織的織物擦拭、噴射、澆鑄、滾壓或浸沒(méi)該鏡片。因此，第一防污涂層被移除并且被第二防污涂層取代。從國(guó)際專利申請(qǐng)WO 2004/111691也已知這種方法，其中執(zhí)行在大約大氣壓力下的技術(shù)種類的激活處理(特別地電暈放電處理或等離子體處理)以便移除涂覆的光學(xué)鏡片的初始最外涂層。接下來(lái)，最終涂層，特別地防污涂層，通過(guò)真空、浸潰、旋轉(zhuǎn)、噴射或沖壓涂覆被沉積在鏡片上。因此，鏡片的初始最外涂層被移除并且被防污涂層取代。國(guó)際專利申請(qǐng)WO 2007/051841描述一種半完工鏡片基片，該半完工鏡片基片具有通過(guò)真空室中的蒸發(fā)而被沉積的稱為抗反射涂層的第一涂覆的層，并且具有也通過(guò)真空室中的蒸發(fā)被沉積的稱為防污涂層的第二涂覆的層。在抗反射涂層上的防污涂層的沉積之前，有必要執(zhí)行預(yù)處理。該預(yù)處理是激活抗反射涂層的粘附性質(zhì)所需的高能處理。該高能處理是真空等離子體處理。防污涂層由液體成分制成，該液體成分也需要通過(guò)真空等離子體處理被激活。抗反射涂層和液體成分的激活可以在設(shè)置有泵的已知真空處理機(jī)器的相同真空室中進(jìn)行。液體成分的真空蒸發(fā)通過(guò)與真空處理機(jī)器關(guān)聯(lián)的蒸發(fā)裝置進(jìn)行，該蒸發(fā)裝置包括在兩側(cè)上連接到電路的細(xì)長(zhǎng)的一片鋼絲絨。本專利技術(shù)涉及一種用來(lái)以防污涂層成分涂覆或再涂覆光學(xué)制品的機(jī)器，該機(jī)器實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單、緊湊且經(jīng)濟(jì)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
因此，本專利技術(shù)提供一種用來(lái)以防污涂層成分涂覆光學(xué)制品的機(jī)器，所述機(jī)器包括:真空室，所述真空室具有內(nèi)部空間，所述內(nèi)部空間被構(gòu)造用來(lái)接收所述光學(xué)制品;真空泵，所述真空泵連接到所述真空室；等離子體發(fā)生器，所述等離子體發(fā)生器被構(gòu)造用來(lái)在所述真空室中執(zhí)行所述光學(xué)制品的真空等尚子體處理； 蒸發(fā)裝置，所述蒸發(fā)裝置被構(gòu)造用來(lái)執(zhí)行所述防污涂層成分的真空蒸發(fā)處理，以便在所述真空室中將其沉積在所述光學(xué)制品上；和控制單元，所述控制單元被構(gòu)造用來(lái)控制所述等離子體發(fā)生器和所述蒸發(fā)裝置；所述控制單元控制所述等離子體發(fā)生器以便移除所述光學(xué)制品的初始最外防污涂層；所述控制單元控制所述蒸發(fā)裝置以便用所述防污涂層成分再涂覆所述光學(xué)制品;所述控制單元還被構(gòu)造用來(lái)在真空等離子體處理期間引起所述真空泵從所述真空室吸取氣體；并且所述控制單元還被構(gòu)造用來(lái)在真空蒸發(fā)處理期間引起所述真空泵不從所述真空室吸取氣體。換句話說(shuō)，根據(jù)本專利技術(shù)的機(jī)器被構(gòu)造用來(lái)再涂覆光學(xué)制品(首先移除初始最外防污涂層并且接下來(lái)在光學(xué)制品上沉積新的防污涂層)。兩種不同的處理在該機(jī)器的相同真空室中被實(shí)施使得該機(jī)器是簡(jiǎn)單且經(jīng)濟(jì)的。真空泵用于在該室中獲得真空。首先連接(引起泵吸取的流動(dòng)連接)到真空室的真空泵隨后在相繼地執(zhí)行的兩個(gè)處理之間斷開(kāi)(引起泵不吸取的流動(dòng)中斷)使得真空蒸發(fā)處理的質(zhì)量提聞。因?yàn)榈入x子體處理是需要攪動(dòng)狀態(tài)的處理并且蒸發(fā)處理是需要安靜狀態(tài)的處理，由于等離子體處理期間需要的氣體流，真空等離子體室通常與蒸發(fā)處理不一致。本專利技術(shù)假定，通過(guò)引起真空泵不從真空室吸取氣體，實(shí)際上可以在真空等離子體室中具有安靜的狀態(tài)。該機(jī)器還包括數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，該數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)被構(gòu)造用來(lái)相繼地控制等離子體發(fā)生器和蒸發(fā)裝置兩者，使得該機(jī)器的制造和使用特別簡(jiǎn)單。此外，根據(jù)本專利技術(shù)的機(jī)器是緊湊的。因此，根據(jù)本專利技術(shù)的機(jī)器可以放置在光學(xué)儀器商的經(jīng)營(yíng)場(chǎng)所，光學(xué)儀器商可以容易地使用所述機(jī)器。由于僅有的一個(gè)機(jī)器包括移除初始防污涂層且以防污涂層成分再涂覆該光學(xué)制品所需的所有元件，因此對(duì)于光學(xué)儀器商來(lái)說(shuō)也非常方便并且該再涂覆是非常迅速的。根據(jù)用來(lái)實(shí)施根據(jù)本專利技術(shù)的機(jī)器的非常簡(jiǎn)單、方便且經(jīng)濟(jì)的優(yōu)選特征:該機(jī)器包括真空閥，所述真空閥布置在所述真空室和所述真空泵之間并且被構(gòu)造用來(lái)處于打開(kāi)狀態(tài)和關(guān)閉狀態(tài)，所述打開(kāi)狀態(tài)和關(guān)閉狀態(tài)分別用來(lái)引起所述真空泵從所述真空室吸取和不吸取氣體；所述真空泵被構(gòu)造成被開(kāi)通和關(guān)掉，分別用來(lái)從所述真空室吸取或不吸取氣體；該機(jī)器包括壓力傳感器，該壓力傳感器布置在真空室和真空泵之間；該機(jī)器包括過(guò)濾裝置，并且所述控制單元被構(gòu)造用來(lái)引起所述真空泵從所述真空室吸取氣體并且借助于通過(guò)所述過(guò)濾裝置排出氣體到大氣；該過(guò)濾裝置布置在真空室和真空泵之間；該機(jī)器包括連接到真空室的氣體入口閥；所述蒸發(fā)裝置包括加熱模塊，所述加熱模塊被構(gòu)造用來(lái)加熱所述防污涂層成分；該機(jī)器包括坩堝，所述坩堝被構(gòu)造用來(lái)接收所述防污涂層成分，所述加熱模塊包括第一支撐件，在所述第一支撐件上接收所述坩堝；該機(jī)器包括第二支撐件，在該第二支撐件上接收光學(xué)制品；該機(jī)器包括門，所述門是可移動(dòng)的或可移除的，所述蒸發(fā)裝置和所述第二支撐件被接收在所述門上；所述真空室被構(gòu)造用來(lái)接收安裝在眼鏡框架上的眼鏡片，并且所述機(jī)器被構(gòu)造用來(lái)再涂覆所述眼鏡片；所述控制單元包括數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)具有微處理器和隨機(jī)存取存儲(chǔ)器，并且被構(gòu)造用來(lái)加載和執(zhí)行計(jì)算機(jī)程序以便相繼地控制所述等離子體發(fā)生器和所述蒸發(fā)裝置；且/或所述控制單元包括通信接口，所述通信接口被構(gòu)造用來(lái)與所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)通信以便再涂覆所述光學(xué)制品。本專利技術(shù)還提供一種使用如上所述的這種機(jī)器的方法，該方法包括以下步驟:選擇光學(xué)制品，所述光學(xué)制品具有初始最外防污涂層；將光學(xué)制品裝載到該機(jī)器的真空室中；將防污涂層成分裝載到所述真空室中；啟動(dòng)該機(jī)器的真空泵并且引起真空泵從真空室吸取氣體；執(zhí)行所述真空等離子體處理并且控制它以便移除所述光學(xué)制品的初始最外防污涂層;引起所述真空泵不從所述真空室吸取氣體；執(zhí)行所述真空蒸發(fā)處理并且控制它以便用所述防污涂層成分再涂覆所述光學(xué)制品；和從真空室卸載光學(xué)制品。如根據(jù)本專利技術(shù)的機(jī)器，使用該機(jī)本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
用來(lái)以防污涂層成分涂覆光學(xué)制品（28）的機(jī)器，所述機(jī)器包括：真空室（8），所述真空室具有內(nèi)部空間（31），所述內(nèi)部空間被構(gòu)造用來(lái)接收所述光學(xué)制品（28）；真空泵（20），所述真空泵連接到所述真空室（8）；等離子體發(fā)生器（11），所述等離子體發(fā)生器被構(gòu)造用來(lái)在所述真空室（8）中執(zhí)行所述光學(xué)制品（28）的真空等離子體處理；蒸發(fā)裝置（10），所述蒸發(fā)裝置被構(gòu)造用來(lái)執(zhí)行所述防污涂層成分的真空蒸發(fā)處理，以便在所述真空室（8）中將所述防污涂層成分沉積在所述光學(xué)制品（28）上；和控制單元（2），所述控制單元被構(gòu)造用來(lái)控制所述等離子體發(fā)生器和所述蒸發(fā)裝置；所述控制單元（2）控制所述等離子體發(fā)生器以便移除所述光學(xué)制品（28）的初始最外防污涂層；所述控制單元（2）控制所述蒸發(fā)裝置以便用所述防污涂層成分再涂覆所述光學(xué)制品（28）；所述控制單元（2）還被構(gòu)造用來(lái)在真空等離子體處理期間引起所述真空泵（20）從所述真空室（8）吸取氣體；并且所述控制單元（2）還被構(gòu)造用來(lái)在真空蒸發(fā)處理期間引起所述真空泵（20）不從所述真空室（8）吸取氣體。
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：R·斯特羅貝爾，S·朔爾策，G·富爾南，N·伯格哈卡爾，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司，先利士勞爾光子學(xué)股份公司，
類型：
國(guó)別省市：
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