本實用新型專利技術公開了一種石英承載舟,包括舟體及設置在舟體兩端的拉環(huán),舟體包括下刻槽石英棒及與之相連的上支撐石英棒、中支撐石英棒、下支撐石英棒、承重石英棒等組成,其特征在于:在所述舟體上設置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之間設置側支撐石英彎板。本實用新型專利技術的有益效果是:設置了上刻槽石英棒,在上下刻槽石英棒之間加強了支撐,增加了舟體的穩(wěn)固性,避免了在進出爐過程中易出現(xiàn)斷裂的現(xiàn)象,增強石英承載舟的載重能力,降低石英承載舟的破損幾率,延長石英承載舟的使用壽命。本實用新型專利技術具有使用效果好、結構簡單、成本低廉之優(yōu)點。(*該技術在2023年保護過期,可自由使用*)
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
【專利摘要】本技術公開了一種石英承載舟,包括舟體及設置在舟體兩端的拉環(huán),舟體包括下刻槽石英棒及與之相連的上支撐石英棒、中支撐石英棒、下支撐石英棒、承重石英棒等組成,其特征在于:在所述舟體上設置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之間設置側支撐石英彎板。本技術的有益效果是:設置了上刻槽石英棒,在上下刻槽石英棒之間加強了支撐,增加了舟體的穩(wěn)固性,避免了在進出爐過程中易出現(xiàn)斷裂的現(xiàn)象,增強石英承載舟的載重能力,降低石英承載舟的破損幾率,延長石英承載舟的使用壽命。本技術具有使用效果好、結構簡單、成本低廉之優(yōu)點。【專利說明】一種石英承載舟
本技術涉及半導體生產
。尤其是涉及在半導體生產中用于SIP0S沉積工藝的一種石英承載舟。
技術介紹
半導體產品生產過程中的LPCVD系統(tǒng)中需經過SIP0S沉積的工序,其特征是在晶片表面通過特殊氣體在特殊條件下沉積一層SIP0S薄膜,同時承載晶片的石英承載舟表面被沉積一層SIP0S薄膜,經過多次沉積后石英承載舟需經混合酸浸泡去除表面SIP0S薄膜,而石英承載舟經多次混酸浸泡后的使用壽命及其穩(wěn)固性成為生產成本的制約因素。目前已有的SIP0S沉積石英承載舟缺點如下:其一,刻槽石英棒經過混酸多次浸泡進一步腐蝕變細;其二,左右刻槽石英棒之間沒有支撐,在操作拿取過程中易斷裂;其三,上下刻槽石英棒之間支撐接觸面小,穩(wěn)固性差,在進出爐過程中易出現(xiàn)斷裂,造成晶片掉落報廢。這是現(xiàn)有技術所存在的不足之處。
技術實現(xiàn)思路
本技術的目的在于克服現(xiàn)有技術中存在的缺點,提供便于操作、堅固、在操作拿取過程中易斷裂、耐用的一種石英承載舟。采用的技術方案是:一種石英承載舟,包括有舟體及設置在舟體兩端的拉環(huán),舟體包括下刻槽石英棒及與之相連的上支撐石英棒、中支撐石英棒、下支撐石英棒、承重石英棒等組成,其特征在于:在所述舟體上設置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之間設置側支撐石英彎板。增加了舟體的穩(wěn)固性,降低石英承載舟的破損幾率。本技術的技術特征還有:所述側支撐石英彎板至少設置兩個。本技術的技術特征還有:所述側支撐石英彎板兩邊對稱設置。本技術的技術特征還有:所述側支撐石英彎板均布設置。本技術的技術特征還有:所述上刻槽石英棒的刻槽與所述下刻槽石英棒的刻槽——對應。本方案的有益效果可根據(jù)對上述方案的敘述得知,一種石英承載舟,包括有舟體及設置在舟體兩端的拉環(huán),舟體包括下刻槽石英棒及與之相連的上支撐石英棒、中支撐石英棒、下支撐石英棒、承重石英棒等組成,其特征在于:在所述舟體上設置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之間設置側支撐石英彎板。本技術的有益效果是:設置了上刻槽石英棒,并在上下刻槽石英棒之間加強了支撐,增加了舟體的穩(wěn)固性,避免了在進出爐過程中易出現(xiàn)斷裂的現(xiàn)象,增強石英承載舟的載重能力,降低石英承載舟的破損幾率,延長石英承載舟的使用壽命。本技術具有使用效果好、結構簡單、成本低廉之優(yōu)點。【專利附圖】【附圖說明】附圖1是本技術結構示意主視圖,附圖2是本技術結構示意俯視圖,附圖3是本技術結構示意左視圖,其中1是上刻槽石英棒,2是承重石英棒,3是上支撐石英棒,4是中支撐石英棒,5是下支撐石英棒,6是石英拉環(huán),7是側支撐石英棒,8是側支撐石英彎板,9是下刻槽石英棒。【具體實施方式】下面結合附圖,對本技術的【具體實施方式】進行說明。本技術公開了一種石英承載舟,包括有舟體及設置在舟體兩端的石英拉環(huán)6,舟體包括下刻槽石英棒9及與之相連的上支撐石英棒3、中支撐石英棒4、下支撐石英棒5、承重石英棒2等組成,在舟體上設置上刻槽石英棒1、在上刻槽石英棒1、下刻槽石英棒9之間設置側支撐石英彎板8。側支撐石英彎板8至少設置兩個。側支撐石英彎板8兩邊對稱設置。側支撐石英彎板8均布設置。上刻槽石英棒1的刻槽與下刻槽石英棒9的刻槽一一對應。本技術為在舟體兩側各對稱均布設置三個側支撐石英彎板8。 工作原理:晶片垂直放置于平行刻槽內,刻槽間距相等,上下刻槽石英棒間距可根據(jù)晶片直徑進行調整,石英承載舟可以根據(jù)生產數(shù)量需要延長或縮短。例如:上下刻槽石英棒間距40mm可放置3英寸晶片,上下刻槽石英棒間距60mm可放置4英寸晶片,刻槽石英棒開槽120槽可放置200片晶片,刻槽石英棒開槽140槽可放置240片晶片。進出料時拉桿頭部勾住石英拉環(huán),帶動SIP0S石英承載舟整體移動。當然,上述說明并非對本技術的限制,本技術也不僅限于上述舉例,本
的普通技術人員在本技術的實質范圍內所做出的變化、改型、添加或替換,也屬于本技術的保護范圍。【權利要求】1.一種石英承載舟,包括有舟體及設置在舟體兩端的拉環(huán),舟體包括下刻槽石英棒及與之相連的上支撐石英棒、中支撐石英棒、下支撐石英棒、承重石英棒組成,其特征在于:在所述舟體上設置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之間設置側支撐石英彎板。2.按照權利要求1所述的一種石英承載舟,其特征在于:所述側支撐石英彎板截面呈矩形且至少設置兩個。3.按照權利要求1或2所述的一種石英承載舟,其特征在于:所述側支撐石英彎板兩邊對稱設置。4.按照權利要求3所述的一種石英承載舟,其特征在于:所述側支撐石英彎板均布設置。5.按照權利要求1所述的一種石英承載舟,其特征在于:所述上刻槽石英棒的刻槽與所述下刻槽石英棒的刻槽 對應。【文檔編號】H01L21/673GK203521385SQ201320552414【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年9月6日 優(yōu)先權日:2013年9月6日 【專利技術者】郭城, 呂明, 徐明星, 郭英云, 紀大鵬 申請人:濟南科盛電子有限公司本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種石英承載舟,包括有舟體及設置在舟體兩端的拉環(huán),舟體包括下刻槽石英棒及與之相連的上支撐石英棒、中支撐石英棒、下支撐石英棒、承重石英棒組成,其特征在于:在所述舟體上設置上刻槽石英棒、在所述上刻槽石英棒、下刻槽石英棒之間設置側支撐石英彎板。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:郭城,呂明,徐明星,郭英云,紀大鵬,
申請(專利權)人:濟南科盛電子有限公司,
類型:實用新型
國別省市:
還沒有人留言評論。發(fā)表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。