納米壓印對準裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開了一種納米壓印對準裝置，包括視覺觀察機構，其還包括：分別用于固定被測物的第一、第二平臺，其設置于上述視覺觀察機構下方，第一平臺安裝于一平臺座上，第二平臺連接一球軸機構、通過該球軸機構進行多方向多角度的擺動；該球軸機構的下方還設置有用于驅動上述第二平臺多個方向運動的多個驅動機構。本實用新型專利技術的裝置相比于現有技術可以實現模板與基片更好地緊密擠壓和固定，從而更優地實現對微納圖案的重復有序壓印。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本技術公開了一種納米壓印對準裝置，包括視覺觀察機構，其還包括：分別用于固定被測物的第一、第二平臺，其設置于上述視覺觀察機構下方，第一平臺安裝于一平臺座上，第二平臺連接一球軸機構、通過該球軸機構進行多方向多角度的擺動；該球軸機構的下方還設置有用于驅動上述第二平臺多個方向運動的多個驅動機構。本技術的裝置相比于現有技術可以實現模板與基片更好地緊密擠壓和固定，從而更優地實現對微納圖案的重復有序壓印。【專利說明】納米壓印對準裝置
本技術涉及一種對準裝置，特別涉及一種納米壓印對準裝置。
技術介紹
微納米壓印技術及設備是實現廉價、快速的微納圖案化的核心技術及設備，其在科研應用及各種大規模產業化應用方面都具有重大的市場前景。要實現對微納圖案的重復有序壓印，即在已有圖案的基底上再進行圖案壓印制作，需要所使用的壓印設備具有對準機構及功能。目前已有的微結構圖案對準機構，是應用于光刻機之上的對準機構，相比于光刻機的對準裝置，納米壓印設備的對準裝置的不同在于:實現模板與基片對準后，模板與基片需要相互緊密擠壓并固定(相互鎖定，不能再有相對移動)，然后送入壓印腔進行壓印操作；而光刻機的對準機構是在實現兩個片子調整對準后僅需要模板與基片貼住即可，且不用再移動。
技術實現思路
本技術的目的就是針對上述問題，提供一種可以實現模板與基片更好地緊密擠壓和固定的納米壓印對準裝置。為了實現上述目的，本技術提供了以下技術方案:納米壓印對準裝置，包括視覺觀察機構，其還包括:分別用于固定被測物的第一、第二平臺，其設置于上述視覺觀察機構下方，第一平臺安裝于一平臺座上，第二平臺連接一球軸機構、通過該球軸機構進行多方向多角度的擺動；該球軸機構的下方還設置有用于驅動上述第二平臺多個方向運動的多個驅動機構。優選地,上述的球軸機構包括柱體以及安裝于該柱體上并在該柱體上自由轉動的球體，該球體還連接上述的第二平臺。優選地，上述的平臺座上設置有滑軌，上述第一平臺的一側滑動連接于該滑軌內。優選地，上述的多個驅動機構包括從上至下依次設置的旋轉運動驅動機構、XY軸運動驅動機構和Z軸運動驅動機構。優選地，上述的第二平臺上還設置有夾緊機構。采用以上技術方案的有益效果在于:本技術將一個平臺安裝在一個平臺座上，另一個平臺連接在一球軸機構上，并在球軸機構下方設置多個驅動機構，通過球軸機構進行的多方向多角度的擺動，使得模板和基片(即模板和基片)可以被調整平行，然后再通過多個驅動機構的驅動作用和視覺觀察機構，使得模板和基片無限接近，并將其上的十字靶標對齊。因此，利用上述技術方案，本技術的裝置相比于現有技術可以實現模板與基片更好地緊密擠壓和固定，從而更優地實現對微納圖案的重復有序壓印。【專利附圖】【附圖說明】圖1是本技術的納米壓印對準裝置的主視圖。圖2是本技術的納米壓印對準裝置的右視圖。圖3是本技術的納米壓印對準裝置的立體圖。圖4是本技術的納米壓印對準裝置的球軸的結構示意圖。其中，1.視覺觀察機構11.顯微鏡12.C⑶相機13.顯微鏡光源14.顯微鏡安裝座2.第一平臺3.第二平臺4.平臺座41.滑軌5.球軸機構51.柱體52.球體6.旋轉運動驅動機構7.XY軸運動驅動機構8.Z軸運動驅動機構9.夾緊機構。【具體實施方式】下面結合附圖詳細說明本技術的優選實施方式。如圖1-3所示，本技術的納米壓印對準裝置的第一種實施方式中，其包括:視覺觀察機構1，該視覺觀察機構I具體可以包括顯微鏡11、CXD相機12、顯微鏡光源13和顯微鏡安裝座14，其作用是觀察模板和基片的中心是否對齊，視覺觀察機構I其實并不限于采用如上的部件，其為現有技術中可以獲知的，在此不再贅述；分別用于固定被測物的兩個平臺，即第一平臺2和第二平臺3，它們都設置于視覺觀察機構I的下方，其中，第一平臺2安裝于一平臺座4上，第二平臺3連接一球軸機構5、通過該球軸機構5進行多方向多角度的擺動；該球軸機構5的下方還設置有用于驅動上述平臺多個方向運動的多個驅動機構，該驅動機構可以根據需要進行調整并安裝，如驅動第二平臺3上下運動、左右運動等的驅動機構。通過球軸機構5進行的多方向多角度的擺動，使得置于第一平臺2和第二平臺3上的模板和基片可以被調整平行，然后再通過多個驅動機構的驅動作用和視覺觀察機構，使得模板和基片無限接近，并將其上的十字靶標對齊。因此，通過該技術方案，本裝置相比于現有技術可以實現模板與基片更好地緊密擠壓和固定，從而更優地實現對微納圖案的重復有序壓印。如圖1和圖4所示，本技術的納米壓印對準裝置的第二種實施方式中，上述的球軸機構5包括柱體51以及安裝于該柱體51上并在該柱體51上自由轉動的球體52，該球體52還連接第二平臺3。通過球體52在柱體51上的自由轉動的作用，即可以快速地實現對第二平臺3的調整，實現模板和基片之間平行度的調整。如圖1-3所示，本技術的納米壓印對準裝置的第三種實施方式中，上述的平臺座4上設置有滑軌41，第一平臺2的一側滑動連接于該滑軌41內，從而可以實現第一平臺2在一個方向上的調整。如圖1-3所示，本技術的納米壓印對準裝置的第四種實施方式中，上述的多個驅動機構包括從上至下依次設置的旋轉運動驅動機構6、XY軸運動驅動機構7和Z軸運動驅動機構8，這個次序的設置可以方便工作人員對第二平臺3的調整，即從下開始先通過Z軸運動驅動機構8使得模板和基片無限接近，然后再通過上面的旋轉運動驅動機構6和XY軸運動驅動機構7來對齊十字靶標。其中，各個驅動機構可以采用絲杠螺母等部件來手動調節，也可以采用其他如電機等的驅動方式。如圖1-2所示，本技術的納米壓印對準裝置的第五種實施方式中，上述的第二平臺3上還設置有夾緊機構9，該夾緊機構9可以包括有多個可來回滑動的壓塊，這些壓塊可以安裝在第二平臺3上的支架上。當然，除了壓塊，也可以設置壓桿等多種方式。設置夾緊機構9，可以在完成對模板和基片的找平和對準工序后，對其兩者直接進行夾緊，然后就可以迅速地送入壓印腔進行壓印。下面介紹本技術優選方式下的工作過程:將模板置于第一平臺2，一般是通過加真空將基片固定在第一平臺2上，基片則一般通過同樣的方式固定于第二平臺3上，隨后通過Z軸運動驅動機構8驅動球軸機構5朝向第一平臺2的方向運動，使得第二平臺3上的基片與第一平臺2上的模板相擠壓，球軸自身會自適應到一個位置(即兩個平臺平行的位置)，這時鎖定球軸機構5 (可以是通過設置于球軸機構5內的螺釘等零件頂緊球軸)，即實現了模板和基片的找平，隨后再通過旋轉運動驅動機構6和XY軸運動驅動機構7分別驅動第二平臺2旋轉和沿著XY軸運動來實現基片和模板的靶標的對準，在實現對準調節后，基片與模板緊貼，這時夾緊機構9下落，將基片與模板夾緊，這時操作完成，整個機構可以送人壓印腔進行壓印。以上所述的僅是本技術的優選實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本技術創造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本技術的保護范圍。【權利要求】1.納米壓印對準裝置，包括視覺觀察機構，其特征在于:還包括: 分別用于固定被測物的第一、第二平臺，其設置于所述視覺 觀察機構下方，第一平臺安裝于一平臺座上，第本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：史曉華，劉曉成，
申請(專利權)人：蘇州光舵微納科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：