供熱水裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術的供熱水裝置，包括：對從貯熱水箱（57）的下部經由入水管路（64）送來的水進行加熱的加熱單元（55）；配設于入水管路（64），輸送貯熱水箱（57）的下部的水的循環泵（63）；將由加熱單元（55）加熱后的水向貯熱水箱（57）的上部導入的出熱水管路（65）；和配設于入水管路（64），在要送到加熱單元（55）的水中添加水垢抑制劑（67）的水垢抑制單元（68），由加熱單元（55）加熱后的水的溫度變高時，流入到加熱單元（55）的水所含的水垢抑制劑（67）的濃度更大，根據供熱水裝置的運轉條件，能夠調整水垢抑制劑（67）的相對于水的溶解度，所以不會浪費水垢抑制劑（67），能夠高效地抑制水垢的生成。

【技術實現步驟摘要】
供熱水裝置
本專利技術涉及具有水垢抑制單元的供熱水裝置。
技術介紹
現有技術中，作為這種供熱水裝置，存在利用貯存于貯熱水箱的高溫的熱水進行供熱水的供熱水裝置（例如，參照專利文獻1）。圖13表示的是專利文獻1記載的現有供熱水裝置。如圖13所示，該供熱水裝置包括：具有氣體冷卻器（供熱水熱交換器）1的熱泵單元2；和具有對通過氣體冷卻器1而被燒熱的熱水進行貯存的貯熱水箱3的貯熱水單元4。另外，熱泵單元2將壓縮機5、氣體冷卻器1、膨脹閥（減壓裝置）6和蒸發器7連接而構成制冷劑循環路。貯熱水單元4將循環泵8、氣體冷卻器1和貯熱水箱3連接而構成水回路。而且，由壓縮機5壓縮后的高溫高壓的氣體制冷劑通過氣體冷卻器1而與貯存于貯熱水箱3的水進行熱交換，將水加熱。另外，在從貯熱水箱3到氣體冷卻器1的水循環路上設置有供給抑制水垢生成的抑制劑的添加器（水垢抑制單元）9。添加器9在流入到氣體冷卻器1之前的低溫水中添加添加劑。通過將添加劑添加于水，抑制貯熱水單元4的水回路的水垢生成，防止水回路的堵塞。另外，專利文獻1具有使添加器9旁路的旁通回路（未圖示）。在該旁通回路的分支部位設有三通閥（未圖示）。通過三通閥的切換，有選擇地在添加器9或旁通回路流過水?，F有技術文獻專利文獻專利文獻1：特開2011－69572號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的課題但是，在上述現有結構中，不能根據供熱水裝置的運轉條件的變化來調整水垢抑制劑的添加量，所以具有不能有效地防止水垢的生成的課題。另外，超出必要量地消耗水垢抑制劑，由此，具有水垢抑制劑的更換或維護的成本增大的課題。本專利技術是解決上述課題的專利技術，目的在于提供一種供熱水裝置，其通過根據供熱水裝置的運轉條件的變化來恰當地調整水垢抑制劑的添加量，不會浪費水垢抑制劑，能夠抑制水垢的析出。用于解決課題的技術方案為了解決所述現有課題，本專利技術為一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；對從上述貯熱水箱的下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于上述入水管路，將上述貯熱水箱的上述下部的水送到上述加熱單元的循環泵；將由上述加熱單元加熱后的水向上述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于上述入水管路，在要送到上述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，在由上述加熱單元加熱后的水的溫度變高時，增大流入到上述加熱單元的水所含的上述水垢抑制劑的濃度。由此，能夠根據易生成水垢的運轉條件調整水垢抑制劑相對于流入到加熱單元的水的濃度。因此，能夠防止水垢抑制劑的浪費，從而能夠降低水垢抑制劑的更換或補充等維護的維持成本，能夠有效地抑制水垢的析出，能夠提供可靠性高的供熱水裝置。專利技術效果根據本專利技術，能夠提供一種供熱水裝置，其根據供熱水裝置的運轉條件，調整水垢抑制劑的濃度，能夠防止水垢抑制劑的浪費，并且能夠抑制水垢生成。附圖說明圖1是本專利技術實施方式1的供熱水裝置的結構圖。圖2是對水的溫度和水垢成分的溶解度之間的關系進行說明的說明圖。圖3是對本專利技術實施方式1的供熱水裝置的水的加熱溫度與加熱流量的關系進行說明的說明圖。圖4是表示該供熱水裝置的水的加熱溫度與水垢抑制劑濃度的關系的特性圖。圖5是該供熱水裝置的水的加熱溫度與水垢抑制劑濃度之間的另一關系的特性圖。圖6是本專利技術實施方式2的供熱水裝置的結構圖。圖7是表示與該供熱水裝置的外部空氣溫度相應的運轉條件的特性圖。圖8是本專利技術實施方式3的供熱水裝置的結構圖。圖9（a）是對在該供熱水裝置中流量小時的流量與水垢抑制劑的濃度的關系進行說明的說明圖，（b）是對在該供熱水裝置中流量大時的流量與水垢抑制劑的濃度的關系進行說明的說明圖。圖10（a）是表示該供熱水裝置的設定分流比率的流量調節單元的一例的結構圖，（b）是表示該供熱水裝置的設定分流比率的流量調節單元的另一例的結構圖。圖11是本專利技術實施方式4的供熱水裝置的結構圖。圖12是本專利技術實施方式5的供熱水裝置的結構圖。圖13是現有供熱水裝置的結構圖。符號說明50供熱水裝置52供熱水熱交換器55加熱單元57貯熱水箱63循環泵64入水管路65出熱水管路66溫度檢測單元67水垢抑制劑68水垢抑制單元69流量調節單元具體實施方式第一專利技術為一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；對從上述貯熱水箱的下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于上述入水管路，將上述貯熱水箱的上述下部的水送到上述加熱單元的循環泵；將由上述加熱單元加熱后的水向上述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于上述入水管路，在要送到上述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，在由上述加熱單元加熱后的水的溫度變高時，增大流入到上述加熱單元的水所含的上述水垢抑制劑的濃度。由此，在易生成水垢的運轉條件下，即，在加熱單元的出口溫度（加熱溫度）高的情況下，進一步增大流入到加熱單元的水所含的水垢抑制劑的濃度，所以能夠高效地抑制水垢的生成。因而，能夠防止水進行流通的配管回路的堵塞等，能夠成為穩定運轉的供熱水裝置。另外，因為根據加熱溫度來恰當地調節水垢抑制劑的濃度，所以能夠防止水垢抑制劑的浪費，并能夠降低水垢抑制劑的更換或補充等維護的維持成本。第二專利技術特別是在第一專利技術的基礎上，其特征在于：在由上述加熱單元加熱后的上述水的上述溫度變高時，減小流入到上述加熱單元的水的流量。由此，由于通過減小流量來延長加熱單元的水的滯留時間，所以能夠提高加熱溫度，另一方面，通過增大流量，能夠降低加熱溫度。另外，由于通過減小流量來縮小水垢抑制單元的水的滯留時間，所以能夠增大水垢抑制劑的濃度，另一方面，通過增大流量，能夠減小流入到加熱單元的水所含的水垢抑制劑的濃度。即，當減小流量時，水垢抑制劑的濃度大，且能夠提高加熱溫度。當增大流量時，水垢抑制劑的濃度就小，且能夠降低加熱溫度。因而，通過調節流量，能夠同時調整加熱溫度和與加熱溫度相應的水垢抑制劑的濃度。第三專利技術特別是在第一專利技術的基礎上，其特征在于：在上述入水管路設置有使上述入水管路的一部分旁路的旁通回路，上述水垢抑制單元具有：配設于上述旁通回路并且對流過上述入水管路的流量與流過上述旁通回路的流量的流量比率進行調整的流量調節單元；和對由上述加熱單元加熱后的水的上述溫度進行測定的溫度檢測單元，基于上述溫度檢測單元的檢測值調整上述流量比率。由此，根據溫度檢測單元的檢測值，能夠將在入水管路內流動的水的一部分分支并向水垢抑制單元引導，使水垢抑制劑溶解，使其他水保持原樣地流入到供熱水熱交換器。因而，能夠根據運轉條件而更恰當地調節水垢抑制劑相對于流入到加熱單元的水的濃度。即，在易生成水垢的條件下，即，在加熱流量小的情況下，能夠增大溶解于流入到加熱單元的水中的水垢抑制劑的濃度。因而，能夠防止水垢附著造成的供熱水熱交換器的堵塞，能夠實現可靠性優異的供熱水裝置。另外，因為能夠減小水垢抑制劑的浪費，所以水垢抑制劑的壽命延長。因而，能夠降低水垢抑制劑的更換或補充等維護的維持成本。第四專利技術特別是在第一～三中的任一專利技術的基礎上，其特征在于：上述水垢抑制劑以多磷酸鹽為主要成分。由此，溶解于水的多磷酸鹽對作為水垢的主要成分的碳酸鈣發揮作用，進行碳酸鈣的晶體改性。即，能夠使碳酸鈣不是成為通常的大的菱面體，而是成為較小的球形晶體。球形晶體與菱面體晶體不同本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；對從所述貯熱水箱的下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于所述入水管路，將所述貯熱水箱的所述下部的水送到所述加熱單元的循環泵；將由所述加熱單元加熱后的水向所述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于所述入水管路，在要送到所述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，在由所述加熱單元加熱后的水的溫度變高時，增大流入到所述加熱單元的水所含的所述水垢抑制劑的濃度。

【技術特征摘要】
2012.10.16 JP 2012-2286141.一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；對從所述貯熱水箱的下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于所述入水管路，將所述貯熱水箱的所述下部的水送到所述加熱單元的循環泵；將由所述加熱單元加熱后的水向所述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于所述入水管路，在要送到所述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，在由所述加熱單元加熱后的水的溫度變高時，使所述循環泵的轉速減少，由此...

【專利技術屬性】
技術研發人員：山田宗登，佐野光宏，尾浜昌宏，西山吉繼，柳澤忠，
申請(專利權)人：松下電器產業株式會社，
類型：發明
國別省市：日本;JP