供熱水裝置制造方法及圖紙

一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到所述貯熱水箱的下部的供水管；對從所述貯熱水箱的所述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于所述入水管路，將所述貯熱水箱的所述下部的所述水送到所述加熱單元的循環泵；將由所述加熱單元加熱后的水向所述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于所述入水管路，在送到所述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，相比流入到所述加熱單元的水的溫度高時，使溫度低時流入到所述加熱單元的所述水所含的所述水垢抑制劑的濃度較大。

【技術實現步驟摘要】
供熱水裝置
本專利技術涉及具有水垢抑制單元的供熱水裝置。
技術介紹
現有技術中，作為這種供熱水裝置，存在利用貯存于貯熱水箱的高溫的熱水進行供熱水的供熱水裝置（例如，參照專利文獻1）。圖12表示的是專利文獻1記載的現有供熱水裝置。如圖12所示，該供熱水裝置包括：具有氣體冷卻器（供熱水熱交換器）1的熱泵單元2；和具有對通過氣體冷卻器1被燒熱的熱水進行貯存的貯熱水箱3的貯熱水單元4。另外，熱泵單元2將壓縮機5、氣體冷卻器1、膨脹閥（減壓裝置）6和蒸發器7連接而構成制冷劑循環路。貯熱水單元4將循環泵8、氣體冷卻器1和貯熱水箱3連接而構成水回路。而且，由壓縮機5壓縮后的高溫高壓的氣體制冷劑通過氣體冷卻器1而與貯存于貯熱水箱3的水進行熱交換，將水加熱。另外，在從貯熱水箱3到氣體冷卻器1的水循環路上設置有供給抑制水垢生成的抑制劑的添加器（水垢抑制單元）9。添加器9在流入到氣體冷卻器1之前的低溫水中添加添加劑。通過將添加劑添加于水，抑制貯熱水單元4的水回路的水垢生成，防止水回路的堵塞。另外，專利文獻1具有使添加器9旁路的旁通回路（未圖示）。在該旁通回路的分支部位設有三通閥（未圖示）。通過三通閥的切換，有選擇地在添加器9或旁通回路流過水。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：特開2011－69572號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的課題但是，在上述現有結構中，不能根據供熱水裝置的運轉條件的變化來調整水垢抑制劑的添加量，所以具有不能有效地防止水垢的生成的課題。另外，超出必要量地消耗水垢抑制劑，由此，具有水垢抑制劑的更換或維護的成本增大的課題。本專利技術是解決上述課題的專利技術，目的在于提供一種供熱水裝置，其通過根據供熱水裝置的運轉條件的變化來恰當地調整水垢抑制劑的添加量，不會浪費水垢抑制劑，能夠抑制水垢的析出。用于解決課題的技術方案為了解決所述現有課題，本專利技術為一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到上述貯熱水箱的下部的供水管；對從上述貯熱水箱的上述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于上述入水管路，將上述貯熱水箱的上述下部的上述水送到上述加熱單元的循環泵；將由上述加熱單元加熱后的水向上述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于上述入水管路，在送到上述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，相比流入到上述加熱單元的水的溫度高時，使溫度低時流入到上述加熱單元的上述水所含的上述水垢抑制劑的濃度較大。另外，本專利技術為一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到上述貯熱水箱的下部的供水管；對從上述貯熱水箱的上述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于上述入水管路，將上述貯熱水箱的上述下部的上述水送到上述加熱單元的循環泵；將由上述加熱單元加熱后的水向上述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于上述入水管路，在送到上述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，相比外部空氣溫度高時，使外部空氣溫度低時流入到上述加熱單元的上述水所含的上述水垢抑制劑的濃度較大。由此，能夠根據易生成水垢的運轉條件調整水垢抑制劑相對于流入到加熱單元的水的濃度。因此，能夠防止水垢抑制劑的浪費，從而能夠降低水垢抑制劑的更換或補充等維護的維持成本，能夠有效地抑制水垢的析出，能夠提供可靠性高的供熱水裝置。專利技術效果根據本專利技術，能夠提供一種供熱水裝置，其根據供熱水裝置的運轉條件，調整水垢抑制劑的濃度，能夠防止水垢抑制劑的浪費，并且能夠抑制水垢生成。附圖說明圖1是本專利技術實施方式1的供熱水裝置的結構圖。圖2是對水的溫度和水垢成分的溶解度之間的關系進行說明的說明圖。圖3是對本專利技術實施方式1的水的加熱溫度和加熱流量之間的關系進行說明的說明圖。圖4是對該供熱水裝置的外部空氣溫度和供熱水負荷、加熱溫度和加熱流量之間的關系進行說明的說明圖。圖5是對該供熱水裝置的入水溫度和水垢抑制劑的濃度和加熱流量之間的關系進行說明的說明圖。圖6是表示該供熱水裝置的入水溫度和水垢抑制劑的濃度之間的關系的特性圖。圖7是本專利技術實施方式2的供熱水裝置的結構圖。圖8（a）是對在該供熱水裝置中外部空氣溫度低時的流量和水垢抑制劑的濃度之間的關系進行說明的說明圖，（b）是對在該供熱水裝置中外部空氣溫度高時的流量和水垢抑制劑的濃度之間的關系進行說明的說明圖。圖9（a）是表示該供熱水裝置的設定分流比率的流量調節單元的一例的結構圖，（b）是表示該供熱水裝置的設定分流比率的流量調節單元的另一例的結構圖。圖10是本專利技術實施方式3的供熱水裝置的結構圖。圖11是本專利技術實施方式4的供熱水裝置的結構圖。圖12是現有供熱水裝置的結構圖。符號說明50供熱水裝置52供熱水熱交換器55加熱單元57貯熱水箱58供水管63循環泵64入水管路65出熱水管路66加熱溫度檢測單元67水垢抑制劑68水垢抑制單元71入水溫度檢測單元具體實施方式第一專利技術為一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到上述貯熱水箱的下部的供水管；對從上述貯熱水箱的上述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于上述入水管路，將上述貯熱水箱的上述下部的上述水送到上述加熱單元的循環泵；將由上述加熱單元加熱后的水向上述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于上述入水管路，在送到上述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，相比流入到上述加熱單元的水的溫度高時，使溫度低時流入到上述加熱單元的上述水所含的上述水垢抑制劑的濃度較大。由此，從供水管供給到貯熱水箱的下部的水從貯熱水箱的下部經由入水管路流入到加熱單元。因而，在入水管路內流動的水的溫度因從供水管供水的水的溫度而變化。在此，通常，外部空氣溫度越低，供水的溫度越低，另外，外部空氣溫度越低，高溫熱水的使用量越多，供熱水負荷越大。因此，要提高貯存于貯熱水箱的熱水的溫度、即由加熱單元加熱的水的溫度（加熱溫度）。另外，如后所述，水的溫度越高，水垢成分越易析出。因此，在入水管路內流動的水的溫度低時，可推定外部空氣溫度低，所以需要提高加熱溫度。因此，通過增大流入到加熱單元的水所含的水垢抑制劑的濃度，能夠高效地抑制水垢的生成。因而，能夠提供一種可靠性高的供熱水裝置，其通過運轉條件，恰當地調節水垢抑制劑的濃度，防止了水垢抑制劑的浪費，并且防止了水回路的堵塞等。第二專利技術為一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到上述貯熱水箱的下部的供水管；對從上述貯熱水箱的上述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于上述入水管路，將上述貯熱水箱的上述下部的上述水送到上述加熱單元的循環泵；將由上述加熱單元加熱后的水向上述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于上述入水管路，在送到上述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，相比外部空氣溫度高時，使外部空氣溫度低時流入到上述加熱單元的上述水所含的上述水垢抑制劑的濃度較大。由此，從供水管供給到貯熱水箱的下部的水從貯熱水箱的下部經由入水管路流入到加熱單元。因而，在入水管路內流動的水的溫度因從供水管供水的水的溫度而變化。在此，通常，外部空氣溫度越低，供水的溫度越低，另外，外部空氣溫度越低，高溫熱水的使用量越多，供熱水負荷越大。因此，要提高貯存于貯本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到所述貯熱水箱的下部的供水管；對從所述貯熱水箱的所述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于所述入水管路，將所述貯熱水箱的所述下部的所述水送到所述加熱單元的循環泵；將由所述加熱單元加熱后的水向所述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于所述入水管路，在送到所述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，相比流入到所述加熱單元的水的溫度高時，使溫度低時流入到所述加熱單元的所述水所含的所述水垢抑制劑的濃度較大。

【技術特征摘要】
2012.10.16 JP 2012-2286151.一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到所述貯熱水箱的下部的供水管；對從所述貯熱水箱的所述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；配設于所述入水管路，將所述貯熱水箱的所述下部的所述水送到所述加熱單元的循環泵；將由所述加熱單元加熱后的水向所述貯熱水箱的上部導入的出熱水管路；和配設于所述入水管路，在送到所述加熱單元的水中添加抑制水垢生成的水垢抑制劑的水垢抑制單元，相比流入到所述加熱單元的水的溫度高時，使溫度低時所述循環泵的轉速減少，由此使流入到所述加熱單元的水的流量進一步減小，使流入到所述加熱單元的所述水所含的所述水垢抑制劑的濃度較大。2.一種供熱水裝置，其特征在于，包括：貯存熱水的貯熱水箱；將水供給到所述貯熱水箱的下部的供水管；對從所述貯熱水箱的所述下部經由入水管路送來的水進行加熱的加熱單元；...

【專利技術屬性】
技術研發人員：山田宗登，佐野光宏，尾浜昌宏，西山吉繼，柳澤忠，
申請(專利權)人：松下電器產業株式會社，
類型：發明
國別省市：