用于在涂料應用中增白和遮蔽的經改進的水性組合物制造技術

本發明專利技術涉及用于光學增白和遮蔽基材的水性涂料組合物，其包含：(a)至少一種式(I)的光學增白劑，其中所述增白劑上的陰離子電荷被由一種或多種相同或不同的選自如下組的陽離子構成的陽離子電荷所平衡：氫，堿金屬陽離子，堿土金屬，銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物，R1和R1’可以相同或不同，且各自為氫、C1-C4直鏈或支鏈烷基、C2-C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2-、CH2CH2CONH2或CH2CH2CN，R2和R2’可以相同或不同，且各自為C1-C4直鏈或支鏈烷基、C2-C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2-、CH(CO2-)CH2CO2-、CH(CO2-)CH2CH2CO2-、CH2CH2SO3-、CH2CH2CO2-、CH2CH(CH3)CO2-、芐基，或R1和R2和/或R1和R2與相鄰的氮原子一起表示嗎啉環，且p為1或2；至少一種式(II)的遮蔽染料，R3表示H、甲基或乙基，R4表示對甲氧基苯基、甲基或乙基，M表示選自如下組的陽離子：氫，堿金屬陽離子、堿土金屬、銨、被C1-C4直鏈或支鏈烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物；(c)至少一種白色顏料；(d)至少一種主基料；(e)任選一種或多種次基料；和(f)水。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】【專利摘要】本專利技術涉及用于光學增白和遮蔽基材的水性涂料組合物，其包含：(a)至少一種式(I)的光學增白劑，其中所述增白劑上的陰離子電荷被由一種或多種相同或不同的選自如下組的陽離子構成的陽離子電荷所平衡：氫，堿金屬陽離子，堿土金屬，銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物，R1和R1’可以相同或不同，且各自為氫、C1-C4直鏈或支鏈烷基、C2-C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2-、CH2CH2CONH2或CH2CH2CN，R2和R2’可以相同或不同，且各自為C1-C4直鏈或支鏈烷基、C2-C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2-、CH(CO2-)CH2CO2-、CH(CO2-)CH2CH2CO2-、CH2CH2SO3-、CH2CH2CO2-、CH2CH(CH3)CO2-、芐基，或R1和R2和/或R1和R2與相鄰的氮原子一起表示嗎啉環，且p為1或2；至少一種式(II)的遮蔽染料，R3表示H、甲基或乙基，R4表示對甲氧基苯基、甲基或乙基，M表示選自如下組的陽離子：氫，堿金屬陽離子、堿土金屬、銨、被C1-C4直鏈或支鏈烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物；(c)至少一種白色顏料；(d)至少一種主基料；(e)任選一種或多種次基料；和(f)水?！緦＠f明】用于在涂料應用中增白和遮蔽的經改進的水性組合物本專利技術涉及水性涂料組合物，其包含二氨基芪光學增白劑的衍生物、遮蔽染料、白色顏料、主基料和任選的次基料，其可用于為涂覆基材提供聞白度和売度。專利技術背景眾所周知的是涂覆紙的白度和由此的吸引力可通過向涂料組合物中添加光學增白劑和遮蔽染料而提聞。然而，W00218705A1教導了遮蔽染料的用途，其盡管對白度具有正面影響，然而對亮度具有負面影響。該問題的解決方案是添加額外的光學增白劑，W00218705A1所聲稱優點的特征在于使用包含至少一種直接染料(實例為C.1.直接紫35)和至少一種光學增白劑的混合物。為了滿足對具有較高白度和亮度的涂覆紙的需求，需要更有效的遮蔽組合物。令人驚訝地，我們現在發現了遮蔽染料，其對白度具有非常正面的影響，同時對亮度具有很小的或者不具有影響，且可用于包含光學增白劑、白色顏料、主基料和任選的次基料的涂料組合物中，從而能使造紙商獲得聞水平的白度和売度。因此，本專利技術的目的是提供水性涂料組合物，其包含二氨基芪光學增白劑的衍生物、特定的遮蔽染料、白色顏料、主基料和任選的次基料，其提供了改進的高白度水平，同時避免了使用已知為現有技術的遮蔽染料(亮度損失)或顏料(較低的白色豐滿度)所特有的缺點。專利技術描述因此，本專利技術提供了用于基材，優選紙的光學增白和遮蔽的水性涂料組合物，其包含:(a)至少一種式⑴的光學增白劑:【權利要求】1.用于光學增白和遮蔽基材的水性涂料組合物，其包含: (a)至少一種式(I)的光學增白劑: 2.根據權利要求1的水性涂料組合物，其中在P為I的式(I)化合物中，COf基團處于苯環的2位或4位。3.根據權利要求1的水性涂料組合物，其中在式(I)化合物中， 所述增白劑上的陰離子電荷被由一種或多種相同或不同的選自如下組的陽離子構成的陽離子電荷所平衡:氫，堿金屬陽離子，堿土金屬，被C1-C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物； R1和R/可以相同或不同，且各自為氫、C1-C4直鏈或支鏈烷基、C2-C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2' CH2CH2CONH2 或 CH2CH2CN ； R2和R2’可以相同或不同，且各自為C1-C4直鏈或支鏈烷基、C2-C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2' CH (CO2O CH2C02_ 或 CH2CH2S03_ ;且P為I或2。4.根據權利要求1的水性涂料組合物，其中在式(I)化合物中， 所述增白劑上的陰離子電荷被由一種或多種相同或不同的選自如下組的陽離子構成的陽離子電荷所平衡:Li+、Na+、K+、Ca2+、Mg2+、被C1-C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物； R1和R/可以相同或不同，且各自為氫、甲基、乙基、丙基、α-甲基丙基、β-甲基丙基、β -羥基乙基、β -羥基丙基、CH2CO2' CH2CH2CONH2 或 CH2CH2CN ； 民和民’可以相同或不同，且各自為甲基、乙基、丙基、α-甲基丙基、β-甲基丙基、β -羥基乙基、β -羥基丙基、CH2CO2' CH(CC)2O CH2CCV 或 CH2CH2SCV ;且P為I或2。5.根據權利要求1的水性涂料組合物，其中在式(I)化合物中， 所述增白劑上的陰離子電荷被由一種或多種相同或不同的選自如下組的陽離子構成的陽離子電荷所平衡:Na+、K+、三乙醇銨、N-羥乙基-N，N- 二甲銨、N-羥乙基-N，N- 二乙銨或所述化合物的混 合物； R1和R/可以相同或不同，且各自為氫、甲基、乙基、丙基、β -羥基乙基、β -羥基丙基、CH2CO2' CH2CH2CONH2 或 CH2CH2CN ； 民和R2’可以相同或不同，且各自為乙基、丙基、β_羥基乙基、β -羥基丙基、CH2CO2'CH(CO2) CH2COf 或 CH2CH2SCV ;且 P為I。6.根據前述權利要求中至少一項的水性涂料組合物，其中式(I)化合物以0.01-5重量％的量使用，其中所述重量％基于干白色顏料的總重量。7.根據前述權利要求中至少一項的水性涂料組合物，其中在式(II)化合物中， R3表不H、甲基或乙基； R4表不對甲氧基苯基、甲基或乙基； M表示選自如下組的陽離子:氫，堿金屬陽離子、堿土金屬、銨、被(^-(；直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物。8.根據前述權利要求中至少一項的水性涂料組合物，其中在式(II)化合物中， R3表不甲基或乙基； R4表不甲基或乙基； M表示選自如下組的陽離子:Li+、Na+、K+、1/20&2+、1/21%2+、被C1-C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1-C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代 的銨，或所述化合物的混合物。9.根據前述權利要求中至少一項的水性涂料組合物，其中在式(II)化合物中， R3表不甲基或乙基； R4表不甲基或乙基； M表示選自如下組的陽離子:Na+、K+、三乙醇銨、N-羥乙基-N，N- 二甲銨、N-羥乙基-N，N- 二乙銨或所述化合物的混合物。10.根據前述權利要求中至少一本文檔來自技高網...

【技術保護點】
用于光學增白和遮蔽基材的水性涂料組合物，其包含：(a)至少一種式(I)的光學增白劑：其中：所述增白劑上的陰離子電荷被由一種或多種相同或不同的選自如下組的陽離子構成的陽離子電荷所平衡：氫，堿金屬陽離子，堿土金屬，銨，被C1?C4直鏈或支鏈烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1?C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1?C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物；R1和R1’可以相同或不同，且各自為氫、C1?C4直鏈或支鏈烷基、C2?C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2?、CH2CH2CONH2或CH2CH2CN；R2和R2’可以相同或不同，且各自為C1?C4直鏈或支鏈烷基、C2?C4直鏈或支鏈羥烷基、CH2CO2?、CH(CO2?)CH2CO2?、CH(CO2?)CH2CH2CO2?、CH2CH2SO3?、CH2CH2CO2?、CH2CH(CH3)CO2?、芐基；或者R1和R2和/或R1’和R2’與相鄰的氮原子一起表示嗎啉環；且p為1或2；(b)至少一種式(II)的遮蔽染料：其中：R3表示H、甲基或乙基；R4表示對甲氧基苯基、甲基或乙基；M表示選自如下組的陽離子：氫，堿金屬陽離子、堿土金屬、銨、被C1?C4直鏈或支鏈烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1?C4直鏈或支鏈羥烷基單取代、二取代、三取代或四取代的銨，被C1?C4直鏈或支鏈烷基和直鏈或支鏈羥烷基的混合物二取代、三取代或四取代的銨，或所述化合物的混合物；(c)至少一種白色顏料；(d)至少一種主基料；(e)任選一種或多種次基料；和(f)水。...

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：C·克雷恩，F·雷維奧德，D·埃克金森，A·C·杰克遜，
申請(專利權)人：克拉里安特國際有限公司，
類型：
國別省市：