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本發明涉及一種用于構造光耦合系統的方法，其中，光柵被制造在多模波導的表面上并且限定了波導針對入射光束的入口，所述光柵包括重復圖案。光柵由一組參數進行限定，該組參數包括：分隔兩個相鄰圖案的光柵周期(P)，圖案的最高點和最低點之間的光柵深度(d...該專利屬于瑞士CSEM電子顯微技術研發中心所有，僅供學習研究參考，未經過瑞士CSEM電子顯微技術研發中心授權不得商用。
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本發明涉及一種用于構造光耦合系統的方法，其中，光柵被制造在多模波導的表面上并且限定了波導針對入射光束的入口，所述光柵包括重復圖案。光柵由一組參數進行限定，該組參數包括：分隔兩個相鄰圖案的光柵周期(P)，圖案的最高點和最低點之間的光柵深度(d...