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本申請(qǐng)公開(kāi)了一種硅片清洗方法、及清洗裝置，該清洗方法包括步驟：(1)、把檸檬酸和水按3:100的比例倒入可以恒溫的侵泡槽內(nèi)，加熱至65±5℃；(2)、攪拌直至檸檬酸完全溶解；(3)、恒溫條件下侵泡時(shí)間在2～3小時(shí)。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：(1)、...該專利屬于江蘇奧能光電科技有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)江蘇奧能光電科技有限公司授權(quán)不得商用。