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本發明屬于SAR圖像的自聚焦技術領域，涉及一種結合二維逆濾波的高分辨聚束SAR自聚焦方法。該方案的主要特征為二維逆濾波過程剔除了殘余二維耦合相位，避免了殘余距離徙動對常規自聚焦性能的影響。解決了現有技術中補償精度低、適用范圍有限、過程復雜、...該專利屬于中國航空工業集團公司雷華電子技術研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國航空工業集團公司雷華電子技術研究所授權不得商用。
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本發明屬于SAR圖像的自聚焦技術領域，涉及一種結合二維逆濾波的高分辨聚束SAR自聚焦方法。該方案的主要特征為二維逆濾波過程剔除了殘余二維耦合相位，避免了殘余距離徙動對常規自聚焦性能的影響。解決了現有技術中補償精度低、適用范圍有限、過程復雜、...