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一種用于在介電表面頂上選擇性沉積鎢層的方法及設備。在實施方式中，方法包括：在基板場頂上并且在基板中設置的特征的側壁及介電底表面頂上經由PVD工藝沉積鎢層以在場頂上形成具有第一厚度的第一鎢部分，在側壁頂上形成具有第二厚度的第二鎢部分，并且在底...
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