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本申請公開了一種sheet掩膜版的制作方法，包括以下步驟：S1:取厚度為h0的基材,金屬基材的A面為上表面，B面為下表面；S2:在基材上涂覆光阻膜，曝光，顯影，蝕刻后形成基板，基板包括有效區和將有效區包圍在內的輔助區，有效區與輔助區之間設有...該專利屬于成都拓維高科光電科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過成都拓維高科光電科技有限公司授權不得商用。
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