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本發明公開了一種減小Mask形變的掩膜板制作方法、支撐掩膜板及掩膜板，具體包括以下步驟：S1、獲得張網拉伸后實驗支撐掩膜板的至少部分掩膜開口的偏移量；S2、計算所述掩膜開口的位置精度；S3、根據所述掩膜開口的位置精度、偏移量獲得對應于掩膜開...該專利屬于成都拓維高科光電科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過成都拓維高科光電科技有限公司授權不得商用。
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