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本發明提供了一種晶圓平整度的監控方法，包括：提取晶圓在光刻工藝中產生的第一數據文件和第二數據文件，第一數據文件包括所有晶圓的所有晶圓層的外觀掃描數據以及光刻設備的參數數據，第二數據文件包括光刻條件、晶圓信息和晶圓上的芯片坐標；將LOT相同的...該專利屬于廣州粵芯半導體技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過廣州粵芯半導體技術有限公司授權不得商用。
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