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本發(fā)明提供一種高壓熱處理裝置以及用于其的氣體監(jiān)測模塊，其中，包括：內部腔室，形成用于容納待熱處理的對象；外部腔室，具備：第一部分及第二部分，相面對設置以限定容納空間；以及內O型圈及外O型圈，配置于所述第一部分與所述第二部分之間的對應區(qū)域，在...該專利屬于HPSP有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過HPSP有限公司授權不得商用。
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