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本技術公開了一種碳化硅外延爐晶圓托盤，其包括基座、托盤和圓環。在圓環上設有承托部，通過承托部對晶圓進行承托，使得晶圓不會與托盤相接觸，進而減少晶圓受托盤的熱量影響，提升加熱的均勻性，同時也減少了晶圓底面的磨損；圓環通過定位凸起和定位卡槽相配...該專利屬于廣州粵升半導體設備有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過廣州粵升半導體設備有限公司授權不得商用。
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