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本技術公開了一種用于激光曝光機的基板定位裝置，包括工作平臺，工作平臺上設有拱架，拱架上安裝有用于對基板進行曝光的激光光源，激光光源與工作平臺之間設有用于將基板輸送到激光光源下方的滑軌，滑軌上設有用于放置基板的滑板，所述工作平臺上方設有兩個分...該專利屬于成都拓維高科光電科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過成都拓維高科光電科技有限公司授權不得商用。
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