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本申請公開了一種大面積光柵曝光系統，涉及光柵制造領域，包括曝光光源、光柵掩模、曝光基板、機械運動組件和參考光柵校準子系統，所述曝光光源用于發出曝光光束；所述光柵掩模具有校準區域和曝光區域，所述曝光光束經校準區域入射參考光柵校準子系統上并形成...
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