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本申請涉及一種基于圖像測量的模型精細(xì)化刻畫方法和系統(tǒng)，方法包括響應(yīng)于獲取到的圖像數(shù)據(jù)，將圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行分類；使用頂面圖像、內(nèi)側(cè)面圖像和外側(cè)面圖像分別建立識別基線；確定頂面識別基線、內(nèi)側(cè)面識別基線和外側(cè)面識別基線上的突變區(qū)域并對突變區(qū)域進(jìn)行匹配...該專利屬于成都文億輝科技有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過成都文億輝科技有限公司授權(quán)不得商用。