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本申請公開了一種片狀精細金屬掩模版，包括兩端頭，兩端頭之間設置有蒸鍍作業區，該蒸鍍作業區由若干網格形的蒸鍍單元組成，相鄰兩個蒸鍍單元之間設置有分隔區，該分隔區的數目為單數，該分隔區包括中間分隔區和以該中間分隔區為對稱分布的上分隔區和下分隔區...該專利屬于成都拓維高科光電科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過成都拓維高科光電科技有限公司授權不得商用。
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