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本申請公開一種晶圓抓取裝置，應用于晶圓清洗裝置，包括：基板；限位模塊，設置在基板的第一端，用于對晶圓進行限位；活動握柄，設置在基板的第二端，用于在外力作用下處于握緊狀態,限位模塊到活動握柄的距離大于晶圓清洗裝置的晶圓承載部到進出口的距離；活...該專利屬于華海清科（北京）科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過華海清科（北京）科技有限公司授權不得商用。
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本申請公開一種晶圓抓取裝置，應用于晶圓清洗裝置，包括：基板；限位模塊，設置在基板的第一端，用于對晶圓進行限位；活動握柄，設置在基板的第二端，用于在外力作用下處于握緊狀態,限位模塊到活動握柄的距離大于晶圓清洗裝置的晶圓承載部到進出口的距離；活...