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本發明公開了一種單晶爐循環水冷裝置，現提出如下方案，其包括操作臺，包括安置柜，所述安置柜的底部設有底座，所述安置柜上安裝有主體機構，所述安置柜和主體機構的內部都設有置料機構，所述主體機構上設有水冷機構；本發明通過設置水冷機構，通過相應的電機...
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