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本技術提供一種低逸散填料結構，包括上蓋、填料墊、填料組及填料壓蓋、填料壓板、閥桿；上蓋內設置閥桿，閥桿兩端延伸至上蓋外，閥桿外周的上蓋內設置填料函槽，填料函槽內設置填料組，填料組兩側的填料函槽內從下至上均依次設置填料墊和軸套組件，填料組上側...該專利屬于無錫智能自控工程股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過無錫智能自控工程股份有限公司授權不得商用。
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