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本發明公開了一種提升NAND塊字線及選擇管均勻性的方法，涉及半導體制造技術領域，該方法通過光刻及刻蝕制作出字線犧牲層，側墻工藝制作出字線，光刻及刻蝕制作出選擇管柵極，并要求選擇管柵極的邊緣正好落在字線中，且選擇管覆蓋的字線數量不等；然后去掉...該專利屬于江蘇揚賀揚微電子科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過江蘇揚賀揚微電子科技有限公司授權不得商用。
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