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本發明公開了一種減少激光損傷的DBR掩膜結構及背接觸電池的制作方法，涉及電池技術領域；DBR掩膜結構包括重疊設置的多組DBR單元結構，每組DBR單元結構均由氧化硅膜層和氮化硅膜層組成，所述DBR掩膜結構中，氧化硅膜層和氮化硅膜層交替布置，所...該專利屬于綿陽炘皓新能源科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過綿陽炘皓新能源科技有限公司授權不得商用。
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