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一種半導體結構的形成方法，包括：提供襯底；在襯底上形成第一介質層；在第一介質層上形成第一停止層，第一停止層內具有第一開口；在第一介質層上和第一停止層上形成第二介質層；在第二介質層上形成掩膜結構，掩膜結構內具有第二開口；以第二開口為掩膜刻蝕第...
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