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本發(fā)明公開(kāi)一種大馬士革結(jié)構(gòu)及其制作方法和應(yīng)用，制作方法包括形成覆蓋內(nèi)層線路圖形的第一層光敏材料；對(duì)第一層光敏材料進(jìn)行曝光、顯影、后固化；形成覆蓋第一層光敏材料的第二層光敏材料；對(duì)第二層光敏材料進(jìn)行曝光、顯影、后固化；形成填充滿空腔并覆蓋第一...該專利屬于安捷利美維電子（廈門）有限責(zé)任公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)安捷利美維電子（廈門）有限責(zé)任公司授權(quán)不得商用。