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本技術屬于清洗設備技術領域，具體為一種高精密金屬掩模版蝕刻后清洗設備，包括：底座，所述底座內側放置有浸泡箱和廢水收集箱；所述底座上端部安裝有第一支撐桿和第二支撐桿，所述第一支撐桿、第二支撐桿之間安裝有移動組件，所述移動組件上安裝有液壓伸縮桿...該專利屬于拓維光電材料（滁州）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過拓維光電材料（滁州）有限公司授權不得商用。
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