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本申請公開了一種光刻膠模型的訓練方法、裝置、設備、介質(zhì)及產(chǎn)品，應用于半導體制造領域。該方法多次在圖形數(shù)據(jù)集中選取不同的兩部分圖形數(shù)據(jù)組，以得到對應的多種選取結(jié)果。然后針對每種選取結(jié)果，基于圖形數(shù)據(jù)訓練子集訓練模型，并基于圖形數(shù)據(jù)驗證子集評估...該專利屬于深圳晶源信息技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過深圳晶源信息技術有限公司授權(quán)不得商用。