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本發明公開了一種碲鋅鎘晶片面形控制方法，該方法首先需確定實際工藝條件下碲鋅鎘晶片損傷層厚度和面形隨磨拋工藝過程中的普適變化情況；結合分析結果，在每次碲鋅鎘晶片表面處理前，通過化學腐蝕的方法去除碲鋅鎘晶片雙面的損傷層；同時在化學拋光前測量晶片...
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