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本發(fā)明公開了一種擺閥及薄膜沉積設備，該擺閥包括：閥體、密封環(huán)和密封組件，包括：閥體、密封環(huán)和密封組件，所述密封環(huán)可上下移動地設于所述閥體中，所述密封環(huán)朝向所述閥體內壁的一側開設有密封槽，所述密封組件設于所述密封槽中，所述密封組件包括第一密封...該專利屬于拓荊創(chuàng)益（沈陽）半導體設備有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過拓荊創(chuàng)益（沈陽）半導體設備有限公司授權不得商用。