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本發明一種薄膜均勻性修正擋板的制作方法，首先使用鍍膜機在K9基片上蒸鍍適量的膜料，完成后使用檢測儀器檢測基片的反射率，后將反射率轉換為膜厚。不同位置的基片，會轉換出不同的膜厚值。其次，建立空間直角坐標系，描述膜料蒸發源位置、基片位置及運動方...
該專利屬于北京空間機電研究所所有，僅供學習研究參考，未經過北京空間機電研究所授權不得商用。

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