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本發明實施例涉及半導體技術領域，提供一種半導體結構及其形成方法，半導體結構的形成方包括：提供基底；在所述基底上形成初始光刻膠層，圖形化所述初始光刻膠層以形成光刻膠層，所述光刻膠層內具有貫穿所述光刻膠層厚度的多個定位開口；形成初始目標層，所述...該專利屬于瑞聲科技（新加坡）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過瑞聲科技（新加坡）有限公司授權不得商用。
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