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本發(fā)明涉及化學機械拋光技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種泡孔可控的耐磨耐酸堿CMP拋光軟墊及其制備方法，包括如下步驟：S1、將基布浸泡在酸堿擺動浸料中預處理后，在基布上涂覆聚氨酯漿料，然后浸入凝固浴中使得基布表面的聚氨酯漿料凝固形成聚氨酯涂層，并于涂層...該專利屬于萬樺（常州）新材料科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過萬樺（常州）新材料科技有限公司授權(quán)不得商用。