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本技術(shù)公開了一種滑塊控制斷差的模具機構(gòu)，其特征在于：上模組件和下模組件，所述下模組件設(shè)于上模組件的下方，且所述上模組件和下模組件相配合；所述上模板上設(shè)有至少一個上模仁，且所述下模板上設(shè)有至少一個下模仁；位于上模仁和下模仁的外側(cè)設(shè)有一組滑動組...該專利屬于愛威電子（蘇州）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過愛威電子（蘇州）有限公司授權(quán)不得商用。