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本申請公開了一種光刻膠仿真模型的評估方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品，涉及光刻仿真技術(shù)領(lǐng)域。該光刻膠仿真模型的評估方法包括：獲取待評估光刻膠仿真模型的光刻膠參數(shù)與光學(xué)建模文件，光學(xué)建模文件中包括用于構(gòu)建待評估光刻膠仿真模型的原始光學(xué)建模參數(shù)；根據(jù)光刻...該專利屬于深圳晶源信息技術(shù)有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過深圳晶源信息技術(shù)有限公司授權(quán)不得商用。