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本申請(qǐng)公開(kāi)了一種標(biāo)準(zhǔn)單元生成方法及相關(guān)設(shè)備，包括：讀取目標(biāo)工藝的工藝文件和需要生成的標(biāo)準(zhǔn)單元的行為描述；針對(duì)需要調(diào)用的底層工具，生成所述底層工具對(duì)應(yīng)的適配器；根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)單元的目標(biāo)要求和所述目標(biāo)工藝，確定執(zhí)行策略，所述執(zhí)行策略為與所述標(biāo)準(zhǔn)單...該專利屬于北京湯谷軟件技術(shù)有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)北京湯谷軟件技術(shù)有限公司授權(quán)不得商用。