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一種存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)及存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)的形成方法，其中結(jié)構(gòu)包括：襯底，襯底包括若干第一區(qū)、以及位于相鄰第一區(qū)之間的第二區(qū)，第一區(qū)和第二區(qū)內(nèi)具有若干相互分立的有源區(qū)，第一區(qū)和第二區(qū)沿第二方向排布，且有源區(qū)橫跨第一區(qū)和第二區(qū)，第一方向和第二方向平行于襯底表...該專利屬于中芯國際集成電路制造(北京)有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過中芯國際集成電路制造(北京)有限公司授權(quán)不得商用。