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本發(fā)明屬于鈣鈦礦疊層太陽電池技術(shù)領(lǐng)域，涉及亞微米級紋理硅基底異質(zhì)結(jié)的設計與制造。針對現(xiàn)有技術(shù)中表面紋理與鈣鈦礦薄膜制備不匹配、硅表面鈍化效果不佳等問題，通過金屬輔助化學腐蝕進行表面改性并形成納米結(jié)構(gòu)；利用等離子體刻蝕表面結(jié)構(gòu)；運用自組裝技術(shù)...該專利屬于青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司西寧太陽能電力分公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司西寧太陽能電力分公司授權(quán)不得商用。