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本發明公開了一種低霧低粗糙度防側滑的薄膜電暈設備及薄膜生產工藝，該電暈設備包括電暈裝置和電暈輥，所述電暈輥輥筒表面包覆硅膠層，所述硅膠層表面設置有若干繞輥筒圓周軌跡的環狀凹槽，若干環狀凹槽沿電暈輥輥筒的橫向均勻間隔布置，該橫向方向即電暈輥輥...該專利屬于江蘇斯迪克新材料科技股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過江蘇斯迪克新材料科技股份有限公司授權不得商用。
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