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適于光化學反應的新型聚合物基微流體反應器及制備方法屬于聚合物基 微流體反應器制造技術領域。該反應器制備方法：在PMMA基體的進出口位 置加工出與外部設備連接的頂部未打通的螺紋孔；PMMA表面旋涂EA51膠 層進行表面改性；在EA51膠層表面...該專利屬于楊萬泰;劉佳;馬育紅;劉蓮英所有，僅供學習研究參考，未經過楊萬泰;劉佳;馬育紅;劉蓮英授權不得商用。
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適于光化學反應的新型聚合物基微流體反應器及制備方法屬于聚合物基 微流體反應器制造技術領域。該反應器制備方法：在PMMA基體的進出口位 置加工出與外部設備連接的頂部未打通的螺紋孔；PMMA表面旋涂EA51膠 層進行表面改性；在EA51膠層表面...