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本發(fā)明提供一種光柵輔助納米成像的光刻方法，納米物體或納米圖形掩模位于物方區(qū)域，在納米物體或納米圖形掩模前放置一物方光柵，該光柵作用在于將高頻倏逝波轉(zhuǎn)化為傳輸波；在物方光柵外的遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)域放置一光學(xué)成像鏡頭組，利用該鏡頭組實(shí)現(xiàn)對(duì)光場(chǎng)分布投影成像。...該專利屬于中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所授權(quán)不得商用。