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一種靶臺(tái)，用于在襯底上通過磁控濺射法形成薄膜，包括靶材、金屬支板、陽極板、陰極板及擋片；所述靶材固定于與所述襯底相對(duì)的位置；所述支板圍繞于所述靶材周圍并與所述靶材相對(duì)于所述襯底的面相垂直，同時(shí)與靶材的側(cè)面形成間隙；所述陽極板垂直固定于所述支...該專利屬于深圳先進(jìn)技術(shù)研究院;香港中文大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過深圳先進(jìn)技術(shù)研究院;香港中文大學(xué)授權(quán)不得商用。