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本發(fā)明提供了一種使用處理氣體的基板處理裝置及其使用的調(diào)節(jié)板。一種基板處理裝置，該基板處理裝置包括：室，其設(shè)有在其中執(zhí)行處理的空間；支撐件，其在室中支撐基板；氣體供給件，其將處理氣體供給到布置在支撐件上的基板上；以及排氣組件，其耦合到室以排出...該專(zhuān)利屬于細(xì)美事有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)細(xì)美事有限公司授權(quán)不得商用。