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一種壓印光刻方法包括使用襯底或壓印模具中的空隙空間。一旦可壓印介質(zhì)已經(jīng)就位，在壓印模具和襯底上的可壓印的、可流動(dòng)的介質(zhì)之間捕獲的氣窩可能導(dǎo)致不規(guī)則。通常在可壓印介質(zhì)就位之前，通過氣體流入或擴(kuò)散到空隙空間，空隙空間允許氣窩消散。作為壓印模具的...該專利屬于ASML荷蘭有限公司;皇家飛利浦電子股份有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過ASML荷蘭有限公司;皇家飛利浦電子股份有限公司授權(quán)不得商用。