本發明涉及晶圓涂膠領域，提供一種晶圓處理裝置、晶圓處理系統和方法，該裝置包括：第一層間機械手、第一層間框架組、第二層間框架組、第一液處理模組和第二液處理模組；第一液處理模組和第二液處理模組用于對晶圓表面進行不同的液處理工藝；第一液處理模...

本發明提供一種涂膠顯影設備及其控制方法，包括沿水平方向依次排列的片盒模塊、第一層間工藝模塊、第一工藝模塊、第二層間工藝模塊和清洗工藝層；第一工藝模塊中各個涂膠工藝層由底向上依次層疊設置；第一工藝模塊與第一層間工藝模塊之間設有第一穿墻式冷...

本發明涉及半導體制造中的涂膠顯影領域，提供一種涂膠顯影裝置和方法，該裝置包括片盒模塊、涂膠模塊、顯影模塊及相應機器人。片盒模塊含進出站、傳片機械手、進片/回片工位及裝載工位。進出站機器人負責晶圓在裝載工位與進片/回片工位間的傳送；傳片機...

本發明屬于半導體設備技術領域，具體地說是一種光刻膠供膠管路用緩沖器，包括筒體主體、上蓋、下蓋，上蓋上開設有用于連通外接的排廢管路的排廢孔道，下蓋上分別開設有進液口及出液口，進液口與外接的進液管路相連通，出液口與外接的出液管路相連通。下蓋...

本發明涉及半導體基板處理領域，提供一種液收集裝置、液處理系統和液收集方法，該裝置包括：上收集杯，具有外殼、調節環和若干葉片；所述葉片的第一端與所述調節環活動連接，所述葉片的第二端與所述外殼活動連接；當所述調節環相對所述外殼轉動時，若干所...

本技術屬于半導體技術領域，具體地說是一種用于晶圓吸附的承片臺，包括連接在一起的臺面部及連接套部，連接套部的上端與臺面部的下表面中部連接，臺面部的上表面凸設有若干個支撐凸臺，各支撐凸臺的設置位置分別與待承接吸附的晶圓的未開設小孔處相對應，...

本技術屬于涂膠機技術領域，具體地說是一種具有伸縮結構的涂膠機擺臂，包括擺臂基板、前后驅動件、轉接架、噴膠頭安裝板及噴膠頭組。擺臂基板與涂膠機的橫移機構連接，前后驅動件安裝于擺臂基板上，轉接架與前后驅動件的驅動端連接，噴膠頭安裝板連接于轉...

本發明公開了一種改善涂布膜厚均勻性的熱板供排風裝置，包括：加熱腔體，用于加熱待處理的基板；排風模塊，包括排風收集盒，所述排風收集盒設置于所述加熱腔體的一側，所述排風收集盒上開設有若干個排氣孔，所述排氣孔與所述加熱腔體內部相互連通；進風模...

本發明提供了一種晶圓加工工藝、涂膠顯影設備及晶圓加工系統，其中，晶圓加工工藝包括如下步驟：S1、對晶圓的正面進行光刻膠涂布工藝處理；S2、對晶圓背面進行清洗以清除晶圓背面的污染物；S3、在晶圓背面涂覆光滑膜層；S4、對晶圓正面進行光刻工...

本技術提供了一種晶圓搬運裝置，涉及半導體加工設備技術領域，包括直動機構、旋轉機構、伸展機構和承載組件；直動機構豎直設置，旋轉機構設置在直動機構的相對兩側面，并與直動機構滑動連接，直動機構用于帶動旋轉機構在豎直方向上移動；伸展機構分別設置...

本發明涉及涂膠顯影領域，提供一種涂膠顯影方法和涂膠顯影系統，該方法應用于涂膠顯影系統，包括：將晶圓傳送到覆膜單元中，在所述晶圓的背面涂覆光滑膜層，以使所述晶圓的背面光滑度增大；將背面涂覆光滑膜層的所述晶圓傳送到涂膠單元中，控制所述涂膠單...

本發明提供了一種涂膠顯影系統，包括清洗設備和涂膠顯影設備；清洗設備用于對晶圓進行清洗；涂膠顯影設包括涂膠單元、覆膜單元、顯影單元和去膜單元；涂膠單元用于對被清洗設備清洗過的晶圓進行光刻膠涂布工藝處理；覆膜單元用于在晶圓背面涂覆光滑膜層，...

本技術屬于用于半導體加工時的晶圓旋轉吸附裝置技術領域，具體地說是一種可用于翹曲晶圓的旋轉吸附裝置，包括驅動電機、真空吸盤連接座及真空吸盤，還包括柔性外圈，柔性外圈分為連接在一起的安裝圈部及吸附邊沿部，柔性外圈的安裝圈部通過過盈配合卡入真...

本發明公開了一種減少晶圓壓傷劃傷的液膜伴隨保護的金屬剝離工藝，屬于LED和光通訊技術領域。該工藝包括：(1)將晶圓置于剝離單元，使用高壓去膠噴嘴向晶圓噴射高壓藥液，常壓噴嘴跟隨高壓噴嘴的后面掃描晶圓邊緣；(2)使用常壓噴嘴進行藥液噴灑，...

本發明公開了一種減少晶圓壓傷劃傷的厚質軟金屬剝離工藝，屬于LED和光通訊技術領域。該方法包括：(1)將晶圓置于剝離單元，使用高壓去膠噴嘴向晶圓中心進行高壓噴灑藥液，在晶圓中心打開一個小的窗口；(2)采用常壓去膠噴嘴向撕裂的窗口內噴入藥液...

本技術屬于半導體去膠工藝設備技術領域，具體地說是一種去膠工藝腔室內旋轉機構的防水罩結構，包括防水罩主體，防水罩主體的頂面中部設置有中心凸臺部，中心凸臺部的頂面的高度位置高于防水罩主體的頂面的高度位置，中心凸臺部的中心處開設有轉接軸穿過孔...

本發明公開了一種改善化合物基底光刻工藝荷電效應缺陷的方法，屬于集成電路技術領域。該方法包括：(1)顯影液噴灑：將晶圓置于顯影單元承片臺上，使用H型噴嘴從晶圓一側邊緣向另一側邊緣擺動并噴灑顯影液；其中：晶圓轉速在100?1000rpm之間...

本技術涉及半導體制造領域，提供了一種涂膠顯影設備，包括：片盒存放單元、片盒裝載單元、層間機械手以及片盒機器人，所述片盒機器人包括：X軸滑軌，沿所述X軸方向設置；X軸移動部，滑動連接于所述X軸滑軌上并被配置于沿所述X軸方向移動；以及抓取片...

本技術提供一種穿墻式光學檢測單元和涂膠顯影設備，該單元應用于涂膠顯影設備，包括：穿墻載板、光源、反射鏡、探測器、固定件和驅動件；所述固定件、所述光源、所述反射鏡和所述探測器均與所述穿墻載板固定連接；所述驅動件與所述固定件活動連接，所述驅...

本申請提供了一種毛刷預清洗裝置及基板清洗設備，其中，毛刷預清洗裝置包括第一清潔件和第二清潔件，第二清潔件可拆卸連接于第一清潔件內，可根據需要選擇與目標基板材質相同材質制成的第二清潔件安裝在第一清潔件內，在毛刷處于非工作時間時，用于驅動毛...