本發明涉及一種聚氨酯組合物、包含該組合物的拋光墊及其應用，該組合物包括聚氨酯樹脂和添加劑，所述添加劑包括絮凝劑，所述絮凝劑包括小分子季銨鹽、聚季銨鹽中的一種或多種。本發明一種實施方式的聚氨酯組合物，可用于制備拋光墊的緩沖層，絮凝劑的存在...

本發明公開了一種用于硅晶圓化學機械精拋液的丙烯酸酯聚合物及其制備方法和應用，所述丙烯酸酯聚合物包括以下質量份的組分：0.3?3份乳化劑45?50份軟單體、5?10份功能單體,0.3?3份引發劑過硫酸銨，0.5?3份鏈轉移劑，3?5份硅烷...

本發明提供一種環氧樹脂組合物及其應用，其包含以下重量份的組分：(a)12～20份的環氧樹脂；(b)5～15份的胺類固化劑；(c)0.05～3份的抗氧劑；(d)50～75份的填料，所述的胺類固化劑為二苯甲烷型胺類化合物與含硫的苯環型胺類化...

本發明提供一種軟質的多孔發泡體拋光層及含其的拋光墊和應用，所述拋光層表面進行砂光處理與壓制溝槽，0.20g/cm<supgt;3</supgt;≤拋光層密度≤0.23g/cm<supgt;3</supgt;，并且...

本發明公開了一種適用于半導體制造領域硅基器件平坦化的化學機械拋光組合物及其應用，所述化學機械拋光組合物包括氧化劑、聚乙二醇接枝硅溶膠、絡合劑、聯吡啶及其衍生物、腐蝕抑制劑、表面活性劑和去離子水。本發明的拋光組合物中所述硅溶膠為表面由聚乙...

本發明公開了一種適用于集成電路銅互連結構化學機械拋光的拋光組合物及其應用，所述化學機械拋光組合物包括研磨粒子、氧化劑、絡合劑、腐蝕抑制劑、星形聚乙二醇聚合物、pH調節劑、任選的非離子聚合物和去離子水。本發明的拋光組合物中所述星形聚乙二醇...

本發明公開了一種用于銅阻擋層的化學機械拋光組合物及其應用，所述化學機械拋光組合物包含：磨料、絡合劑、抑制劑、氧化劑、表面活性劑、pH調節劑和去離子水。本發明的化學機械拋光組合物用于銅阻擋層的CMP過程后，可以有效的改善拋光后的平坦化效果...

本發明屬于化學機械拋光墊技術領域，尤其涉及一種化學機械拋光墊的聚氨酯拋光層及其制備方法和應用、拋光墊；聚氨酯拋光層是通過異氰酸酯預聚物、固化劑和功能填料所得的產物；異氰酸酯預聚物為采用異氰酸酯、聚醚多元醇和任選的相對分子量小于等于500...

本發明涉及光固化材料，具體涉及一種光固化膜組合物及其應用，該光固化膜組合物包括氟取代丙烯酸環烷基酯、鏈狀丙烯酸酯和芳香族丙烯酸酯；其中，所述氟取代丙烯酸環烷基酯具有如下結構，R1為氫原子或甲基；R2為亞甲基、乙氧基或丙氧基；R3為包含一...

本發明公開了一種可以延長使用壽命的CMP拋光墊、制備方法及其應用，所述CMP拋光墊包含拋光頂層、上粘結層、緩沖中層、下粘結層以及支撐性底層，其中，所述緩沖中層表面包含縱向和橫向的溝槽以及其分割出的方形突起區域，所述方形突起區域包含四區域...

本發明提供一種具有兩類海綿孔的化學機械拋光墊、制備方法及其應用，所述制備方法包括以下步驟：a）將聚氨酯樹脂、添加劑溶解在溶劑中配制成涂布漿料；b）將涂布漿料以一定厚度均勻涂布在支撐層上并在烘箱中干燥一段時間；c）隨即浸入凝固浴中固化成型...

本發明涉及化學機械拋光墊技術領域，提供一種化學機械拋光墊的拋光層的制備方法和化學機械拋光墊，在拋光墊中采用本發明制備的拋光層，能夠有效改善拋光墊拋光晶圓時的拋光速率不一致等問題。所述拋光層的制備步驟包括：（1）將包括聚氨酯預聚體、固化劑...

本發明涉及化學機械拋光墊技術領域，提供一種化學機械拋光墊的拋光層及其制備方法和應用，基于本發明的制備方法制備的拋光層，能有效改善拋光過程中Profile的Edge速率，利于改善晶圓各處拋光速率的一致性。所述制備方法包括如下步驟：配制用于...

本發明涉及化學機械拋光墊技術領域，提供一種制備化學機械拋光墊的拋光層的方法和化學機械拋光墊，采用本發明的方法來制備拋光層，可以提高生產效率和良率。所述方法包括如下步驟：提供模具，所述模具包括底座和設于所述底座上的模具圓環，所述模具圓環的...

本發明提供了一種化學機械精拋液，其為包含以下成分的水溶液：2～20?wt.%的高純磨料、0.01～1?wt.%的改性環糊精以及0.001～0.05?wt.%的脂肪醇聚氧乙烯醚類表面活性劑。本發明還提供了所述化學機械精拋液在硅晶圓的化學機...

本發明涉及化學機械拋光技術領域，提供一種化學機械精拋液及其制備方法和應用；采用本發明的制備方法來制備精拋液，可以獲得大顆粒數較少的精拋液，且將該精拋液應用于硅晶圓的化學機械拋光，能夠降低晶圓表面缺陷數。所述制備方法包括如下步驟：1）將中...

本發明涉及化學機械拋光領域，提供一種終點檢測窗口、化學機械拋光墊及其應用。采用帶有本發明提供的終點檢測窗口的化學機械拋光墊進行化學機械拋光，可以有效改善拋光終點檢測準確性，能夠有效改善拋光一致性。所述終點檢測窗口包括以下組分的反應產物：...

本發明提供了一種化學機械精拋液，其為包含以下成分的水溶液：2～12?wt.%的高純磨料、0.01～0.5?wt.%的聚乙烯吡咯烷酮、0.001～0.08?wt.%的烷基糖苷類表面活性劑以及0.1～1?wt.%的甘油衍生物。本發明還提供了...

本發明公開了一種拋光墊及其制備方法、應用，涉及化學機械平坦化領域，所述拋光墊包括依次貼合的拋光頂層、上粘結層、緩沖中層、下粘結層和支撐性底層，其中，具有第一壓縮恢復率的環形纖絲層塊和具有第二壓縮恢復率的環形纖絲層塊從圓心向外按直徑遞增的...

本發明涉及化學機械拋光技術領域，提供一種化學機械拋光組合物及其在鎢化學機械拋光中的應用。本發明提供的化學機械拋光組合物能夠兼顧良好的拋光速率和較低的缺陷水平。所述組合物包括分散介質、磨料、催化劑、氧化劑、第一腐蝕抑制劑、第二腐蝕抑制劑和...