本發明公開了一種晶圓交接結構及交接方法，涉及晶圓交接相關領域，包括吸盤底座、PIN驅動機構、承片臺、PIN機構、晶圓和檢測機構，所述吸盤底座頂部固定連接有PIN驅動機構，所述PIN驅動機構頂部設有連接盤，且該連接盤頂部通過連接桿固定連接...

本發明涉及光刻設備領域，公開了一種光刻設備的對準運動臺和光軸Z軸垂直度校準方法、裝置、設備及存儲介質。該方法包括：晶圓設置標記點，視場中心對準標記點；晶圓移動時，獲取晶圓的移動量

本發明公開了一種光刻設備照明用光源系統，涉及光刻光源相關領域，包括光源機構、光加強機構、濾波機構和勻光機構，所述光源機構左端固定連接有光加強機構，所述光加強機構頂部固定連接有濾波機構，所述濾波機構左端固定連接有勻光機構，設置光源機構，通...

本公開涉及用于硅片盒的凸片自糾正的系統和方法、以及光刻機。根據本公開的系統可包括：載臺、凸片檢測傳感器、自糾正裝置和控制器。自糾正裝置可包括：導桿、導桿上的滑塊、滑塊上的兩個夾爪、以及兩個夾爪上的兩個滾輪。控制器可與凸片檢測傳感器、滑塊...

本發明提供了一種用于掩模對準光刻設備的照明系統，包括：光源模塊，光源模塊包括多個可獨立控制的光源；光準直模塊，光準直模塊將光源模塊中的每一個光源所發出的光準直成沿平行于照明系統的光軸的第一方向發射的第一多個平行光束；設置于光軸上的第一拋...

本發明公開了一種被動調平平臺，包括：垂向電機；位于該垂向電機上方的定子組件，該定子組件包括定子底板、設置在該定子底板上的三個重力補償氣缸和三個鎖定氣缸；位于該定子組件上方的動子組件，該動子組件包括與該定子底板相連的三個導向銷、帶有支撐結...

本發明公開了一種用于pin位置檢測的裝置，包括：底板，該底板中設置有與第一氣體傳感器相連的第一氣道；位于該底板上的基板，該基板中設置有與第二氣體傳感器相連的第二氣道以及與第三氣體傳感器相連的第三氣道；位于該基板上的吸盤，該吸盤用于吸附硅...

本公開涉及環形照明組件、成像裝置、掩模對準系統和光刻機。根據本公開的環形照明組件，包括光源模塊；光出射控制模塊和多根光纖。在一些情形中，該光出射控制模塊上開有多個孔。在一些情形中，該多根光纖的第一端與該光源模塊對接，并且該多根光纖的第二...

本發明提供了一種掩模對準光刻設備及其照明系統和照明方法，其中照明系統包括：光源模塊，用于提供光刻所需的照明；聚光模塊，用于對光源模塊發射的光進行聚光；光闌調節模塊，用于提供光刻任務中所需要的通光孔徑和角譜；均光模塊，用于對經過光闌調節模...

本發明公開了一種上膠機構以及涂膠設備，其中，所述上膠機構包括：支架；連接環，連接環設置于支架上，連接環的上端設置有一注入口；第一球瓣腔，第一球瓣腔可轉動地安裝于連接環的一側；第二球瓣腔，第二球瓣腔可轉動地安裝于連接環的另一側；旋轉驅動機...

本發明公開了一種用于涂膠顯影設備的全自動供液系統，包括涂膠顯影設備和螺栓在涂膠顯影設備前端左頂側的控制面板，通過第一貯留罐和氣泡罐以及泄放罐等部件為涂膠顯影藥液提供存儲，緩沖和回收作用，并通過第一氣動閥和控制閥門等部件為涂膠顯影藥液提供...

本發明公開了一種多尺寸兼容光刻機的傳輸系統，包括工作臺和螺栓安裝在工作臺頂部的第一限位導軌以及安裝在工作臺頂部左側的光刻設備，所述第一限位導軌內軌滑動設置有第一電動滑塊，通過設置了調節機構在安裝板架頂部，通過調節氣缸帶動調節位移板進行長...

本發明公開了光刻機雙光源曝光系統，包括曝光機架和設置在曝光機架內底部凹槽處的調節組件以及螺栓安裝在曝光機架右端的控制面板，所述曝光機架內側壁螺栓安裝有導軌組件，所述調節組件右端位移塊螺栓安裝有曝光平臺，所述調節組件與控制面板電連接，通過...

本發明公開了一種自動化晶圓涂膠機，包括：工作臺、涂膠機構、烘干機構、遮擋機構和傳送機構，所述涂膠機構和所述烘干機構沿所述工作臺的長度方向依次設置，所述涂膠機構、所述烘干機構、所述遮擋機構和所述傳送機構均設置于所述工作臺上，所述涂膠機構用...

本發明公開了一種晶圓垂直投影式雙面曝光系統，包括Y方向平臺和控制面板，所述Y方向平臺左端設有Y方向步進馬達，所述Y方向步進馬達輸出軸與Y方向絲桿固定連接，所述Y方向平臺頂端右側滑動連接有X方向平臺，所述X方向平臺后端設有X方向步進馬達，...

本發明公開了一種便于操作的涂膠機及其操作方法，包括：轉盤、膠體滴管、擋圈裝置、連接滑動裝置、滑動濾刷裝置、集液導流裝置、高強度風機和膠體回收裝置，其中，膠體滴管設于轉盤的上方；擋圈裝置環繞轉盤設置；連接滑動裝置設于擋圈裝置的內壁的一側上...

本發明公開一種自動涂膠機構，包括：平面座、旋轉機構、調節機構和吸盤組件；所述旋轉機構包括：第一驅動件和旋轉圓盤，所述第一驅動件驅動所述旋轉圓盤旋轉，所述旋轉圓盤轉動設于所述平面座上；所述調節機構設于所述旋轉圓盤上，所述調節機構包括：至少...

本發明公開了一種光刻機的放晶圓裝置，涉及到光刻機技術領域，包括箱體、第一輸送機構、第二輸送機構、光刻模塊和硅片支撐機構，箱體的內部設有光刻室和輸送室，第一輸送機構設于光刻室內，且至少部分伸出箱體，第二輸送機構設于輸送室內，并一部分伸出箱...

本發明公開了晶圓檢測技術領域的一種晶圓檢測移動載臺機構，一種晶圓檢測移動載臺機構，包括驅動臂，所述驅動臂的頂端傳動連接有旋轉臂，所述旋轉臂的頂面固定安裝有固定軸，所述固定軸的頂端固定安裝有固定桿，所述固定桿內腔活動連接有伸縮桿。本發明通...

本發明屬于光刻機技術領域，且公開了一種光刻機用晶圓尋邊機構，包括機架，所述機架的內部設有上儲氣管，所述上儲氣管的頂端固定連通有輸氣口，所述上儲氣管的下方設有下儲氣管，所述上儲氣管和下儲氣管的內部均活動安裝有固定機構。本發明通過直接控制晶...