本實(shí)用新型公開了一種適宜不同規(guī)格硅晶圓片的保護(hù)裝置，包含底座，所述底座上層設(shè)置有氣囊層，其特征在于：所述氣囊層上設(shè)置有多個(gè)凹口，所述凹口內(nèi)設(shè)置有氣袋，所述氣袋的口部為椎體結(jié)構(gòu)，所述底座上設(shè)置有氣嘴。該保護(hù)裝置相對(duì)于現(xiàn)有的硅晶圓片保護(hù)盒具...

本實(shí)用新型公開了一種半導(dǎo)體生產(chǎn)線的廢氣處理裝置，包括底座，所述底座的頂部固定連接有支撐腿，并且支撐腿的頂端固定連接有機(jī)殼，所述機(jī)殼內(nèi)壁的底部設(shè)置有積液槽，所述機(jī)殼內(nèi)壁的兩側(cè)均固定連接有固定板，并且固定板的表面開設(shè)有通孔，所述機(jī)殼的內(nèi)部固...