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    盛美半導體設備上海股份有限公司專利技術

    盛美半導體設備上海股份有限公司共有202項專利

    • 本發明揭示了在具有圖形結構的基板上金屬沉積的電鍍裝置和電鍍方法。在一個實施例中,電鍍裝置包括用于容納電鍍液的電鍍槽、用于夾持基板的基板保持模組,以及至少一個驅動裝置,用于在基板浸入電鍍液中被電鍍的過程中,驅動基板保持模組與基板一起水平振...
    • 一種清洗具有圖形結構的基板的方法包括以下步驟:使用氣液霧化清洗基板表面(601);使用TEBO兆聲波清洗基板表面(602);干燥基板(603)。使用TEBO兆聲波清洗去除基板上的小尺寸顆粒,并使用氣液霧化清洗去除基板上的大尺寸顆粒。該方...
    • 本發明的一個實施例揭示了一種電鍍裝置和電鍍方法,該電鍍裝置包括多個平行排列的槳葉,槳葉平行于基板而移動,對電鍍液進行攪拌,一個周期內,槳葉以設定的行程進行往復運動,往復運動的折返點與槳葉的寬度以及相鄰槳葉之間的間隙的最窄寬度有關。本發明...
    • 本發明揭示了一種涂膠機的工藝腔,能防止光刻膠污染晶圓背面,該工藝腔包括腔體、晶圓支座、杯罩、背面清洗噴嘴和擋圈,腔體底部設有排風結構,擋圈位于晶圓下方,擋圈頂部的端面與晶圓存在狹窄間隙,擋圈頂部的端面與所述的杯罩的內壁之間形成傾斜向下的...
    • 本發明揭示了一種晶圓支撐裝置,包括:殼體、夾盤、驅動機構和多個定位銷,所述的定位銷包括自上而下依次連接的夾持柱、中段和底座,所述的中段容納于所述的通孔中,中段上開有一圈凹槽,所述的凹槽的側壁與通孔的側壁之間形成空腔;所述的晶圓支撐裝置內...
    • 本發明揭示了基板保持裝置的杯形夾盤,包括內壓環、中間骨架、密封件、外壓環和接觸環。內壓環鎖緊在中間骨架的內周面。密封件具有外端部、底部和內端部,密封件的外端部包覆至少部分中間骨架的外周面,密封件的底部包覆中間骨架的底部,并暴露于杯形夾盤...
    • 本發明揭示一種基板支撐裝置,包括旋轉卡盤和多個定位銷。旋轉卡盤用于支撐和旋轉基板,具有一支撐面。定位銷設置在支撐面的外圍,用于限制基板的水平位移。支撐面上設有第一環形區域。第一環形區域劃分為多個銷區域和多個非銷區域。該多個銷區域和多個非...
    • 本發明揭示了一種夾持裝置,包括:固定部、旋轉軸、第一驅動機構和彈性件,所述第一驅動機構驅動板件沿第一方向移動時,所述板件的斜面將兩個轉動件推開,使兩個轉動件相互遠離,迫使轉動件繞旋轉軸的軸線旋轉,從而帶動旋轉軸和夾爪同步轉動,此過程中,...
    • 本發明揭示了一種夾持裝置,該裝置包括固定部、驅動機構、一對旋轉軸和彈性機構;需要夾持物體時,夾爪執行夾持動作,彈性機構的彈力逐漸增大;需要松開物體時,錐形頭受驅動機構驅使以及/或者被滾輪推動而復位,夾爪張開。本發明通過彈性機構對第二凸部...
    • 本發明揭示了一種電鍍裝置,包括多個電極,所述的多個電極包括主電極和至少兩個第二電極,各電極在晶圓表面對應區域形成電場,各第二電極與主電極之間分別可選擇的獨立控制或共同控制,所述的電極分別帶有控制接口,通過選擇各第二電極與主電極之間的控制...
    • 本發明揭示了去除硅片上金屬互連的阻擋層的方法,去除單層金屬釕阻擋層,包括:氧化步驟,使用電化學陽極氧化工藝將單層的金屬釕阻擋層氧化成釕氧化物層;氧化層刻蝕步驟,用刻蝕液對釕氧化物層進行刻蝕,去除釕氧化物層。本發明還提出去除硅片上金屬互連...
    • 本發明揭示了一種在基板上電鍍金屬層的電鍍裝置及電鍍方法。在一個實施例中,一電鍍方法包括以下步驟:步驟1:將基板浸入電鍍腔內的電鍍液中,所述電鍍腔包括至少一個第一陽極和一個第二陽極(3001);步驟2:打開第一電鍍電源向第一陽極供電并設置...
    • 本發明提供一種電鍍裝置以及電鍍方法,所述電鍍裝置至少包括:電鍍腔,用于容納電鍍液,所述電鍍腔內部由分隔組件分隔為陽極腔和陰極腔,陽極腔內容納有陽極;基片支架,所述基片支架包括第一驅動器和基片夾具,所述基片夾具用以保持基片,所述第一驅動器...
    • 本發明提供一種管路連接結構,包括管路、箱體壁及輔助件;其中,箱體壁上設置有貫穿箱體壁的安裝孔;輔助件位于安裝孔內,輔助件包括容納管路的貫通孔,輔助件的外壁與箱體壁進行第一可拆卸連接,輔助件的內壁與管路進行第二可拆卸連接,通過輔助件密封管...
    • 本發明提供一種鍍金密封裝置,包括金電鍍腔,其中,金電鍍腔包括送風件及密封件,以通過送風件向金電鍍腔提供正壓的保護氣體;金電鍍腔的腔體壁與金電鍍腔的腔體門之間設置有密封件,以通過密封件密封金電鍍腔。本發明可避免電鍍液的泄漏,以及鍍金密封裝...
    • 本發明提供了一種旋轉噴頭、清洗設備及清洗方法,所述旋轉噴頭包括:噴嘴,其用于噴布藥液;固定模塊,其連接并固定所述噴嘴;驅動模塊,其用于驅動所述噴嘴轉動,以調節所述噴嘴的噴布方向。本發明通過設置驅動模塊驅動噴嘴轉動,使噴嘴能夠調整藥液噴布...
    • 本發明提供了一種電化學拋光液回收裝置與方法,該裝置包括:上方設有開口的電解槽,用于容納拋光液;包括電極板的極板組件;電極板包括陰極板和陽極板,分別連接直流電源;電極板在電解時浸入拋光液并沉積固態物質;包括刮刀的刮刀組件,用于刮除固態物質...
    • 本發明提供一種軸密封結構及半導體設備,軸密封結構包括:具有上下貫穿安裝孔的底座,裝配在所述安裝孔中的運動軸,運動軸的外壁與安裝孔的內壁之間具有間隙;開設于運動軸內的通氣管路,通氣管路具有進氣端及出氣端,進氣端與供氣源相連通,出氣端與間隙...
    • 本發明提供一種晶圓卡盤,底座包括軌道;旋轉輪位于底座上,且與底座活動連接;滑塊與軌道對應設置,且位于軌道中;晶圓限位件與滑塊對應設置,并與滑塊固定連接,以構成中心對稱圖形,且對稱中心與旋轉輪的中心位于同一軸線上;驅動器與旋轉輪相連接;連...
    • 本發明提供一種拆裝工具,包括手柄、卡口及凸起件;其中,卡口包括遠離手柄的自由端及與手柄相連接的連接端,自由端的厚度小于連接端的厚度,卡口的內壁為同心圓弧,同心圓弧所對應的圓弧角θ的取值范圍為90
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